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国际标准 （0）
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国外标准 （0）
- 全部 ANSI 美国国家标准学会( 0 ) API 美国石油学会( 0 ) AS 澳大利亚标准( 0 ) ASME 美国机械工程协会( 0 ) ASTM 美国材料与试验协会标准( 0 ) BS 英国标准( 0 ) BSI 英国BSI标准( 0 ) CFR 美国联邦法规( 0 ) CSA 加拿大标准( 0 ) DE 德国标准( 0 ) DIN 德国DIN标准( 0 ) EN 欧洲标准( 0 ) FR 法国标准( 0 ) IEEE 美国电气电子工程师协会( 0 ) JP 日本标准( 0 ) JSA 日本JIS标准( 0 ) KS 韩国标准( 0 ) MIL 美国军用标准( 0 ) SAE 美国机动车工程师学会( 0 ) SU 俄罗斯GOST标准( 0 ) UL 美国保险商试验室( 0 ) UNI 意大利标准( 0 )
地方标准（0）
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This International Standard provides a framework for introducing nanoelectronics into large scale, high volume production in semiconductor manufacturing facilities through the incorporation of nanomaterials (e.g. carbon nanotubes, graphene, quantum dots, etc.). Since semiconductor manufacturing facilities need to incorporate practices that maintain high yields, there are very strict requirements for how manufacturing is performed. Nanomaterials represent a potential contaminant in semiconductor… read more manufacturing facilities and need to be introduced in a structured and methodical way. This International Standard provides steps employed to facilitate the introduction of nanomaterials into the semiconductor manufacturing facilities. This sequence is described below under the areas of raw materials acquisition, materials processing, design, IC fabrication, testing, and end-use. These activities represent the major stages of the supply chain in semiconductor manufacturing facilities. read less
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