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本文件适用于石英晶体元件激励电平相关性(DLD)的测量。本文件规定两种试验方法(A和C)和一种基准测量方法(方法B)。方法A以IEC 604445的π型网络为基础,适用于本文件所覆盖的整个频率范围。基准测量方法B依据IEC 604445或IEC 604448的π型网络或反射法为基础,适用于本文件所覆盖的整个频率范围。方法C是振荡器法,适用于固定条件下大批量基频石英晶体元件的测量。注: 本文件规定的测量方法不仅适用于AT切型,也适用于其他晶体切型和振动模式,如双转角切型和振动模式(IT,SC)和音叉晶体元件(通过使用高阻抗测试夹具)。
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