购物车
400-168-0010
本标准阅读由平台提供
即将离开本页面去往平台，确定前往？
提示：
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
| 介绍 | 国家标准计划《硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。拟实施日期：发布后10个月正式实施 |
| 项目进度 |
起草 征求意见 审查 批准 发布 |
| 基础信息 | 计划号：20173545-T-469 |
| 制修订：制定 | |
| 项目周期： 24个月 | |
| 下达日期：2018-01-09 | |
| 标准类型：方法 | |
| 中国标准分类号：77.040 | |
| 国际标准分类号：H17 | |
| 组织起草部门：国家标准化管理委员会 | |
| 技术委员会：全国半导体设备和材料标准化技术委员会 | |
| 起草单位 | 南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有限公司、厦门科鑫电子有限公司 |
| 采标情况 | |
