微束分析 分析电子显微术 层状材料截面像中界面位置的确定方法

Microbeam analysis—Analytical electron microscopy—Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials

制定
介绍 国家标准计划《微束分析分析电子显微术层状材料截面像中界面位置的确定方法》由TC38(全国微束分析标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。拟实施日期:发布后6个月正式实施
项目进度

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批准

发布

基础信息 计划号:20214163-T-469
制修订:制定
项目周期: 18个月
下达日期:2021-10-13
标准类型:方法
中国标准分类号:71.040.50
国际标准分类号:N33
组织起草部门:国家标准化管理委员会
技术委员会:全国微束分析标准化技术委员会
起草单位 北京科技大学
采标情况 本标准修改采用ISO国际标准:ISO 20263:2017
采标中文名称:微束分析 分析电子显微术 层状材料截面像中界面位置的确定方法