Microbeam analysis—Analytical electron microscopy—Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials
介绍 | 国家标准计划《微束分析分析电子显微术层状材料截面像中界面位置的确定方法》由TC38(全国微束分析标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。拟实施日期:发布后6个月正式实施 |
项目进度 |
起草 征求意见 审查 批准 发布 |
基础信息 | 计划号:20214163-T-469 |
制修订:制定 | |
项目周期: 18个月 | |
下达日期:2021-10-13 | |
标准类型:方法 | |
中国标准分类号:71.040.50 | |
国际标准分类号:N33 | |
组织起草部门:国家标准化管理委员会 | |
技术委员会:全国微束分析标准化技术委员会 | |
起草单位 | 北京科技大学 |
采标情况 | 本标准修改采用ISO国际标准:ISO 20263:2017 |
采标中文名称:微束分析 分析电子显微术 层状材料截面像中界面位置的确定方法 |