光学元件表面疵病定量检测方法 显微散射暗场成像法

Methodology for the quantitative inspection of the defect on optics surface—Microscopic scattering dark-field imaging

制定
介绍 国家标准计划《光学元件表面疵病定量检测方法显微散射暗场成像法》由TC103(全国光学和光子学标准化技术委员会)归口,TC103SC5(全国光学和光子学标准化技术委员会光学材料和元件分会)执行,主管部门为中国兵器工业集团公司。拟实施日期:发布后6个月正式实施
项目进度

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发布

基础信息 计划号:20203597-T-518
制修订:制定
项目周期: 12个月
下达日期:2020-11-19
标准类型:方法
中国标准分类号:81.040.01
国际标准分类号:N05
组织起草部门:国家标准化管理委员会
技术委员会:全国光学和光子学标准化技术委员会
起草单位 浙江大学、杭州晶耐科光电技术有限公司、中国科学院大连化学物理研究所、中国工程物理研究院激光聚变研究中心、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国兵器工业标准化研究所、江苏皇冠新材料科技有限公司、福建福特科光电股份有限公司
采标情况