Methodology for the quantitative inspection of the defect on optics surface—Microscopic scattering dark-field imaging
介绍 | 国家标准计划《光学元件表面疵病定量检测方法显微散射暗场成像法》由TC103(全国光学和光子学标准化技术委员会)归口,TC103SC5(全国光学和光子学标准化技术委员会光学材料和元件分会)执行,主管部门为中国兵器工业集团公司。拟实施日期:发布后6个月正式实施 |
项目进度 |
起草 征求意见 审查 批准 发布 |
基础信息 | 计划号:20203597-T-518 |
制修订:制定 | |
项目周期: 12个月 | |
下达日期:2020-11-19 | |
标准类型:方法 | |
中国标准分类号:81.040.01 | |
国际标准分类号:N05 | |
组织起草部门:国家标准化管理委员会 | |
技术委员会:全国光学和光子学标准化技术委员会 | |
起草单位 | 浙江大学、杭州晶耐科光电技术有限公司、中国科学院大连化学物理研究所、中国工程物理研究院激光聚变研究中心、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国兵器工业标准化研究所、江苏皇冠新材料科技有限公司、福建福特科光电股份有限公司 |
采标情况 | |