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Method for chemical analysis of metal germanium—Part 3: Determination of trace impurity elements content—Glow discharge mass spectrometry
| 介绍 | 国家标准计划《金属锗化学分析方法第3部分:痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。拟实施日期：发布后3个月正式实施 |
| 项目进度 |
起草 征求意见 审查 批准 发布 |
| 基础信息 | 计划号：20202882-T-469 |
| 制修订：制定 | |
| 项目周期： 24个月 | |
| 下达日期：2020-08-07 | |
| 标准类型：方法 | |
| 中国标准分类号：77.040 | |
| 国际标准分类号：H17 | |
| 组织起草部门：国家标准化管理委员会 | |
| 技术委员会：全国半导体设备和材料标准化技术委员会 | |
| 起草单位 | 安徽光智科技有限公司、云南驰宏锌锗股份有限公司、国标（北京）检验认证有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、东方电气（乐山）峨半高纯材料有限公司、有研国晶辉新材料有限公司、广东先导稀材股份有限公司、广东飞成新材料有限公司 |
| 采标情况 | |
