微信公众号随时随地查标准

QQ交流1群(已满)

QQ群标准在线咨询2

QQ交流2群

购买标准后,可去我的标准下载或阅读
SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法 现行 发布日期 :  2015-04-30 实施日期 :  2015-10-01

定价: 无文本 / 折扣价: 0

在线阅读 收 藏
SJ/T 11493-2015 衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法 现行 发布日期 :  2015-04-30 实施日期 :  2015-10-01

定价: 无文本 / 折扣价: 0

在线阅读 收 藏
YS/T 839-2012 衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法 现行 发布日期 :  2012-11-07 实施日期 :  2013-03-01

1.1 本方法规定了用椭圆偏振测试方法测量生长或沉积在硅衬底上的绝缘体薄膜厚度及折射率的方法。
1.2 本方法适用于薄膜对测试波长没有吸收和衬底对测试波长处不透光、且已知测试波长处衬底折射率和消光系数的绝缘体薄膜厚度及折射率的测量。对于非绝缘体薄膜,满足一定条件时,方可采用本方法。

定价: 21元 / 折扣价: 18 加购物车

在线阅读 收 藏
3 条记录,每页 15 条,当前第 1 / 1 页 第一页 | 上一页 | 下一页 | 最末页  |     转到第   页