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本文件规定了利用高分辨X射线衍射仪测试氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径的方法。 本文件适用于化学气相沉积及其他方法制备的氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径的测试,氮化镓外延片晶面曲率半径的测试可参照本文件进行。
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本标准规定了氮化镓外延片(以下简称外延片)及氮化镓衬底片(以下简称衬底片)的通用规范,包括产品分类、要求、检验方法、检验规则以及标志、包装、运输和储存等。本标准适用于氮化镓外延片与氮化镓衬底片。产品主要用于发光二极管、激光二极管、探测器等光电器件,以及微波与电力电子功率器件。
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本标准规定了利用拉曼光谱测试N型氮化镓衬底片载流子浓度的方法。本标准适用于在蓝宝石、碳化硅、硅、氮化镓材料上生长的N型氮化镓衬底片载流子浓度的测试。测试范围:1×1017 cm-3~1×1020 cm-3。
本标准规定了蓝宝石抛光衬底片表面深度为5 nm以内的残留金属元素的全反射X光荧光光谱测试方法。本标准适用于蓝宝石抛光衬底片表面残留的、在元素周期表中11(Na)~92(U)号(除去铝和氧),且面密度在109 atoms/cm2~1015 atoms/cm2范围内元素的定量测量。其他用途蓝宝石抛光片表面残留金属元素的测量可参照本标准执行。
本标准规定了蓝宝石衬底用高纯氧化铝的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容等。本标准适用于蓝宝石衬底用高纯氧化铝(以下简称高纯氧化铝),其他用途的蓝宝石单晶用高纯氧化铝可参照本标准执行。高纯氧化铝的分子式为Al2O3,相对分子质量为101.96,晶型为α。
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本标准规定了用触针式轮廓仪法测量玻璃衬底上纳米薄膜厚度的原理、仪器要求、试验环境、要求、步骤及测试报告等。本标准适用于玻璃衬底上厚度在10 nm~1 000 nm范围内的纳米薄膜厚度测量,且薄膜与衬底之间存在或可刻蚀出台阶。其他硬质平面衬底可参考本标准执行。
本标准规定了利用双晶X射线衍射仪测试氮化镓单晶衬底片摇摆曲线半高宽的方法。 本标准适用于化学气相沉积及其他方法生长制备的氮化镓单晶衬底片。
本标准规定了用原子力显微镜测试氮化镓单晶衬底表面粗糙度的方法。 本标准适用于化学气相沉积及其他方法生长制备的表面粗糙度小于10 nm的氮化镓单晶衬底。其他具有相似表面结构的半导体单晶衬底应用本标准提供的方法进行测试前,需经测试双方协商达成一致。
本标准规定了蓝宝石切割片、研磨片、抛光片(以下简称蓝宝石衬底片)翘曲度的测试方法。 本标准适用于直径50.8 mm~304.8 mm,厚度为不小于200 μm的蓝宝石衬底片翘曲度的测试。
本标准规定了蓝宝石切割片、研磨片、抛光片(以下简称蓝宝石衬底片)弯曲度的测试方法。 本标准适用于直径50.8 mm~304.8 mm,厚度为不小于200 μm的蓝宝石衬底片弯曲度的测试。
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