【国家标准】用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程

本网站发布时间： 2024-03-01

GB/T 29057-2012
被代替
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标准简介

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适用范围：

[STFZ]2.1[ST]〓本标准包括多晶硅棒取样、将样品区熔拉制成单晶以及通过光谱分析法对拉制好的单晶硅棒进行分析以确定多晶硅中痕量杂质的程序。这些痕量杂质包括施主杂质(通常是磷或砷，或二者兼有)、受主杂质(通常是硼或铝，或二者兼有)及碳杂质。
[STFZ]2.2[ST]〓本标准中适用的杂质浓度测定范围：施主和受主杂质为（0.002～100）ppba（十亿分之一原子比），碳杂质为（0.02～15）ppma（百万分之一原子比）。样品中的这些杂质是通过低温红外光谱法或光致发光光谱法分析的。
[STFZ]2.3[ST]〓本标准仅适用于评价在硅芯上沉积生长的多晶硅棒。

基本信息

标准号：
GB/T 29057-2012
标准名称：
用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程
英文名称：
Practice for evaluation of polocrystalline silicon rods by float-zone crystal growth and spectroscopy
标准状态：
被代替
发布日期：
2012-12-31
实施日期：
2013-10-01
出版语种：
中文简体

标准分类号

标准ICS号：
29.045
中标分类号：
H80

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：
《用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程》 MOD 修改采用

出版信息

页数：
20 页
字数：
28 千字
开本：
大16 开

其他信息

起草人：
梁洪刘畅陈自强张新蓝志张华端瞿芬芬
起草单位：
四川新光硅业科技有限责任公司、乐山乐电天威硅业科技有限责任公司、天威四川硅业有限责任公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
发布部门：
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

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