水平法砷化镓单晶及切割片

Gallium arsenide single crystal and cutting wafer grown by horizontal bridgman method

修订
介绍 国家标准计划《水平法砷化镓单晶及切割片》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。拟实施日期:发布后10个月正式实施
项目进度

起草

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审查

批准

发布

基础信息 计划号:20173767-T-610
制修订:修订
项目周期: 24个月
下达日期:2018-01-09
标准类型:产品
中国标准分类号:29.045
国际标准分类号:H83
组织起草部门:国家标准化管理委员会
技术委员会:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
起草单位 有研光电新材料有限责任公司、有色金属技术经济研究院、广东先导先进材料股份有限公司、北京聚睿众邦科技有限公司、雅波拓(福建)新材料有限公司
采标情况