Gallium arsenide single crystal and cutting wafer grown by horizontal bridgman method
介绍 | 国家标准计划《水平法砷化镓单晶及切割片》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。拟实施日期:发布后10个月正式实施 |
项目进度 |
起草 征求意见 审查 批准 发布 |
基础信息 | 计划号:20173767-T-610 |
制修订:修订 | |
项目周期: 24个月 | |
下达日期:2018-01-09 | |
标准类型:产品 | |
中国标准分类号:29.045 | |
国际标准分类号:H83 | |
组织起草部门:国家标准化管理委员会 | |
技术委员会:全国半导体设备和材料标准化技术委员会 | |
起草单位 | 有研光电新材料有限责任公司、有色金属技术经济研究院、广东先导先进材料股份有限公司、北京聚睿众邦科技有限公司、雅波拓(福建)新材料有限公司 |
采标情况 | |