硅外延用三氯氢硅

Trichlorosilane for silicon epitaxial

修订
介绍 国家标准计划《硅外延用三氯氢硅》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。拟实施日期:发布后6个月正式实施
项目进度

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审查

批准

发布

基础信息 计划号:20211957-T-469
制修订:修订
项目周期: 18个月
下达日期:2021-07-21
标准类型:产品
中国标准分类号:29.045
国际标准分类号:H83
组织起草部门:国家标准化管理委员会
技术委员会:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
起草单位 洛阳中硅高科技有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、上海亿钶气体有限公司、南京国盛电子有限公司、唐山三孚电子材料有限公司、上海新昇半导体科技有限公司、上海晶盟硅材料有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、武汉新硅科技潜江有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、中电晶华(天津)半导体材料有限公司、昊华气体有限公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、青海中航硅材料有限公司、沁阳国顺硅源光电气体有限公司、江西晨光新材料股份有限公司
采标情况