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提示：
Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
| 介绍 | 国家标准计划《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。拟实施日期：发布后6个月正式实施 |
| 项目进度 |
起草 征求意见 审查 批准 发布 |
| 基础信息 | 计划号：20202826-T-469 |
| 制修订：制定 | |
| 项目周期： 12个月 | |
| 下达日期：2020-08-07 | |
| 标准类型：方法 | |
| 中国标准分类号：77.040 | |
| 国际标准分类号：H17 | |
| 组织起草部门：国家标准化管理委员会 | |
| 技术委员会：全国半导体设备和材料标准化技术委员会 | |
| 起草单位 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司 |
| 采标情况 | |
