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T/CHBAS 53-2024 电子工业用气体氘代氨 现行 发布日期 :  2024-04-19 实施日期 :  2024-04-19

本文件规定了电子工业用气体氘代氨(以下简称氘代氨)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存。本文件适用于以高纯氘气和高纯氮气为原料合成并经过精制纯化的氘代氨。

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本文件规定了三正丁基甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺和三正丁基甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺溶液的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、储存和安全等。本文件适用于三正丁基甲基氯化铵和双三氟甲磺酰亚胺酸制备的三正丁基甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺和三正丁基甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺溶液离子液体,该产品主要用于偏光片、抗静电剂、绿色溶剂、有机催化剂及电池电解液等领域。其他工艺生产的三正丁基甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺和三正丁基甲基铵双(三氟甲基磺酰)亚胺溶液可参考执行。

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T/CHBAS 56-2024 双三氟甲基磺酰亚胺锂溶液 现行 发布日期 :  2024-04-19 实施日期 :  2024-04-19

本文件规定了双三氟甲基磺酰亚胺锂溶液的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、储存和安全。本文件适用于由三氟甲磺酰氟和碳酸锂制备双三氟甲基磺酰亚胺锂溶液,该产品主要用于锂电池、锂离子电池电解液等领域。其他工艺生产的双三氟甲基磺酰亚胺锂溶液可参考执行。

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T/CHBAS 55-2024 双三氟甲基磺酰亚胺钠 现行 发布日期 :  2024-04-19 实施日期 :  2024-04-19

本文件规定了双三氟甲基磺酰亚胺钠的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、储存和安全。本文件适用于双三氟甲磺酰氟制备的双三氟甲基磺酰亚胺钠,该产品主要用于电池等领域。其他工艺生产的双三氟甲基磺酰亚胺钠可参考执行。

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T/CHBAS 54-2024 电子工业用气体三氟化氮混合气 现行 发布日期 :  2024-04-19 实施日期 :  2024-04-19

本文件规定了电子工业用气体三氟化氮混合气(以下简称三氟化氮混合气)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、储存和安全的要求。本文件适用于半导体电子工业领域。本文件中的三氟化氮混合气的平衡气多为氦气、氩气、氮气,也可以是其他不与三氟化氮混合气发生化学反应,且不影响反应工艺的平衡气。

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T/CHBAS 50-2023 电子工业用气体二氟甲烷 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体二氟甲烷(以下简称二氟甲烷)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。本文件适用于以工业二氟甲烷为原料经纯化制备的电子工业用二氟甲烷,它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体。

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T/CHBAS 49-2023 电子工业用气体一氟甲烷 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体一氟甲烷(以下简称一氟甲烷)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。本文件适用于以工业一氟甲烷为原料经纯化制备的电子工业用一氟甲烷,它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体。

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T/CHBAS 48-2023 电子工业用气体五氟乙烷 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体五氟乙烷(以下简称五氟乙烷)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。本文件适用于以工业五氟乙烷为原料经纯化制备的电子工业用五氟乙烷,它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体。

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T/CHBAS 47-2023 电子工业用气体六氟丙烷 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体六氟丙烷(以下简称六氟丙烷)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。本文件适用于以工业六氟丙烷为原料经纯化制备的电子工业用六氟丙烷,它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体。

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T/CHBAS 46-2023 电子工业用气体六氟乙烷混合气 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体六氟乙烷混合气(以下简称六氟乙烷混合气)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。本文件适用于电子工业用六氟乙烷混合气,主要在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体。六氟乙烷混合气中平衡气多为氧气,也可以是其他不与六氟乙烷发生化学反应,且不影响反应工艺的气体。

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T/CHBAS 45-2023 电子工业用气体氟气混合气 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体氟气混合气(以下简称氟气混合气)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。本文件适用于电子工业用氟气混合气,主要用于激光气、汽车、制药工业中材料氟化处理等领域。氟气混合气中平衡气多采用氮气、氖气或氦气,也可以是其他不与氟气发生化学反应,且不影响反应工艺的气体。

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T/CHBAS 44-2023 电子工业用气体氧/氮混合气 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体氧/氮混合气(以下简称氧/氮混合气)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存等。本文件适用于电子工业用氧/氮混合气,其测定范围(体积分数):氧气为0.1%~50%,其它组分比例的氧/氮混合气可参考执行。

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T/CHBAS 43-2023 电子工业用气体氙/氖混合气 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体氙/氖混合气(以下简称氙/氖混合气)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存等。本文件适用于电子工业用氙/氖混合气,其测定范围(体积分数):氙气为0.1%~10%,其它组分比例的氙/氖混合气可参考执行。

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T/CHBAS 42-2023 电子工业用气体磷烷混合气 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体磷烷混合气(以下简称磷烷混合气)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。本文件适用于电子工业用磷烷混合气,主要用作外延工艺的掺杂源、扩散工艺的扩散源和离子注入源。磷烷混合气中平衡气多为氦气、氩气、氮气、氢气,也可以是其他不与磷烷发生化学反应,且不影响反应工艺的气体。

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T/CHBAS 41-2023 电子工业用气体乙硼烷混合气 现行 发布日期 :  2023-12-22 实施日期 :  2023-12-30

本文件规定了电子工业用乙硼烷混合气(以下简称乙硼烷混合气)的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。本文件适用于电子工业用乙硼烷混合气,主要用作外延工艺的掺杂源、扩散工艺的扩散源和离子注入源。乙硼烷混合气中平衡气多为氦气、氩气、氮气、氢气,也可以是其他不与乙硼烷发生化学反应,且不影响反应工艺的气体。

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