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本标准规定了用于气体分析及气体分析用校准混合气的相关术语。
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本标准规定了三氯化硼的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氯化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氯化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl3。 相对分子质量:117.1691(按2007年国际相对原子质量计算)。
本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。 分子式:SiH4。 相对分子质量:32.117(按2005年国际相对原子质量)。
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