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GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼 被代替 发布日期 :  1993-08-26 实施日期 :  1994-07-01

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GB/T 14604-1993 电子工业用气体 氧 被代替 发布日期 :  1993-08-26 实施日期 :  1994-07-01

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GB/T 14850-2008 气体分析词汇 被代替 发布日期 :  2008-05-15 实施日期 :  2008-11-01

本标准规定了用于气体分析及气体分析用校准混合气的相关术语。

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GB/T 15909-1995 电子工业用气体 硅烷(SiH4) 被代替 发布日期 :  1995-12-20 实施日期 :  1996-08-01

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GB/T 16945-1997 电子工业用气体 氩 被代替 发布日期 :  1997-08-13 实施日期 :  1998-05-01

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GB/T 17873-1999 纯氖 被代替 发布日期 :  1999-09-16 实施日期 :  2000-06-01

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GB 4844.2-1995 纯氦 被代替 发布日期 :  1995-12-20 实施日期 :  1996-08-01

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GB 8982-1998 医用氧 被代替 发布日期 :  1998-10-19 实施日期 :  1999-04-01

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GB 8983-1998 航空呼吸用氧 被代替 发布日期 :  1998-10-19 实施日期 :  1999-04-01

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GB/T 16942-1997 电子工业用气体 氢 被代替 发布日期 :  1997-08-13 实施日期 :  1998-05-01

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GB/T 16943-1997 电子工业用气体 氦 被代替 发布日期 :  1997-08-13 实施日期 :  1998-05-01

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GB/T 16944-1997 电子工业用气体 氮 被代替 发布日期 :  1997-08-13 实施日期 :  1998-05-01

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GB/T 17874-1999 电子工业用气体 三氯化硼 被代替 发布日期 :  1999-09-16 实施日期 :  2000-06-01

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GB/T 17874-2010 电子工业用气体 三氯化硼 被代替 发布日期 :  2011-01-14 实施日期 :  2011-05-01

本标准规定了三氯化硼的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于以粗制三氯化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氯化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺。
分子式:BCl3。
相对分子质量:117.1691(按2007年国际相对原子质量计算)。

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GB/T 15909-2009 电子工业用气体 硅烷(SiH4) 被代替 发布日期 :  2009-10-30 实施日期 :  2010-05-01

本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。
分子式:SiH4。
相对分子质量:32.117(按2005年国际相对原子质量)。

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