本标准阅读由平台提供
即将离开本页面去往平台,确定前往?
提示:
QQ交流1群(已满)
QQ交流2群
本文件规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。本文件适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度,也适用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系数的薄膜厚度的测试,如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、光刻胶等表面薄膜。测试范围为15 nm~105 nm。
定价: 29元 / 折扣价: 25 元 加购物车
本标准规定了金属材料薄板和薄带的双轴应力-应变曲线胀形试验光学测量方法的符号和说明、原理、试验设备、光学测量系统、试样、试验程序、顶点曲率变形和应变的评价方法、双轴应力-应变曲线的计算及试验报告。 本标准适用于厚度小于3 mm的金属薄板和薄带,在纯胀形过程中测定其双轴应力-应变曲线。 注: 本标准中的术语“双轴应力-应变曲线”是简称。试验所测定的是“双轴真应力-真应变曲线”。
定价: 43元 / 折扣价: 37 元 加购物车
定价: 19元 / 折扣价: 17 元 加购物车
请检查您输入的标准号或标准名称是否有误,您可以通过精简关键词来查询:
1.按标准号检索,如检索“GB/T 10136-2015” ,可直接输入“10136”
2.按标准名称检索,如检索“食品安全相关标准”,可直接输入“食品”或“食品安全”
3.您可去“标准信息检索”栏目全局搜索,检索结果只供参考!
另外,如果您查询的标准刚发布,可能还在加工尚未正式出版;如果您要找的是行业标准,部分行标我们会尽快入库。 更多条件检索,请点击高级检索或 标准出版进度查询