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本文件规定了采用电感耦合等离子发射光谱法测定铌铁中钽、磷、铝、钛等元素含量的方法本文件适用于铌铁中钽、磷、铝、钛元素含量的测定

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本文件规定了电感耦合等离子体原子发射光谱法测定硅钙合金中磷含量的方法本文件适用于硅钙合金中磷含量的测定,测定范围(质量分数)为0.005%~0.080%

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本文件规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱法测定钙、铝、铬、锰、钛和磷的含量本文件适用于氮化硅铁中钙、铝、铬、锰、钛和磷含量的测定钙、铝、铬和锰的测定范围(质量分数):0.010%~2.00%,钛和磷的测定范围(质量分数):0.010%~0.20%

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本文件规定了用火花放电原子发射光谱测定高铬合金磨球中碳、硅、锰、磷、硫、铬、镍、铜、钼、钒、钛含量的分析方法本文件适用于高铬合金磨球多元素含量的测定

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本文件规定了用电感耦合等离子体发射光谱法测定铁、硅、铝、钙、镁和锰含量的方法本文件适用于钢渣中各组分含量的测定

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本文件规定了电感耦合等离子体原子发射光谱法测定硅钙合金中铝含量的方法本文件适用于硅钙合金中铝含量的测定,测定范围(质量分数):0.10%~5.00%

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本文件规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱法测定磷、硅、锰和钛的含量本文件适用于磷铁中磷、硅、锰和钛含量的测定

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本部分规定了电感耦合等离子体原子发射光谱法测定硅、铁、磷、硼、铬、镍、钨、铜、锰、钼的含量本部分适用于钒铝合金中硅、铁、磷、硼、铬、镍、钨、铜、锰、钼含量的测定

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本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱法测定铅、砷、钛、铜、镍、钙、镁、铝含量本标准适用于锰铁、锰硅合金、金属锰中铅、砷、钛、铜、镍、钙、镁、铝含量的测定

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本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定磷、铝、钛、铜、锰、钙含量的方法本标准适用于碳含量小于4%的铬铁中磷、铝、钛、铜、锰、钙含量的测定硅铬合金相应元素的测定也可以参照执行本标准

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YB/T 4144-2019 建立和控制原子发射光谱化学分析曲线规则 现行 发布日期 :  2019-08-27 实施日期 :  2020-01-01

本标准规定了建立和控制原子发射光谱化学分析曲线的规则该规则适用于火花原子发射光谱,不适用于X-射线发射光谱尽管分析曲线的产生和日常控制运行关联,但是仍被看作是相互独立的因为计算机程序运行生成分析曲线的多元线性回归是现成的,本标准不再详尽描述该过程,但是,还是给出了关于生成方程评估的一些推荐性规范本标准不涉及安全问题如果涉及到安全问题,在应用前本标准的使用者有责任建立适当的安全和健康规程限制其应用范围

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YB/T 4143-2019 火花源原子发射光谱法测定固体金属均匀性检验方法 现行 发布日期 :  2019-08-27 实施日期 :  2020-01-01

1.1本标准适用于火花源原子发射光谱测量同批次下固体块状金属材料的均匀性本标准符合GB/T15000.3—标准样品定值的一般原则和统计方法主要是标准样品的应用开发,也可用于其它成批次(包括大批次和小批次,简称L/B)金属材料的均匀性测量,其结果是提供一个L/B均匀性在室内或室间的综合性研究1.2该试验的设计主要针对火花源原子发射光谱法金属L/B中元素的均匀性检验,也可适用于其它仪器检测技术,如X射线荧光光谱法(XRF)和原子吸收光谱法(AAS)注1:这种做法并不局限于元素分析技术,它同样适用于其它任何可以测量的属性,例如,通过罗克韦尔技术进行的硬度测量1.3预先确定被测量样品的判定标准,即均匀性的最大可接受程度取决于L/B预期用途1.4本标准适用于光谱分析专家或技术水平较高,且精通抽样与样品处理,熟悉计算机电子表格数据处理的人员1.5如果信号背景比不是一个限定因素,本标准适用于一个或多个元素1.6本标准包括了随时间变化产生的仪器系统漂移的校正方法如果仪器系统存在漂移,数据分析会得到错误的结论1.7本标准还包括通过类型标准化校准或多重校准对组分和不确定性进行估算1.8本标准提出了一个将非均匀总体分解为多个均匀子集的概念1.9本标准不涉及安全问题如果涉及到安全问题,在应用前本标准的使用者有责任建立适当的安全和健康规程限制其应用范围

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本标准规定了采用电解分离-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定氮化铝析出相量的方法本方法适用于硅钢及钢中铝的质量分数小于0.2%的铝脱氧钢中氮化铝析出相的测定,测定范围(质量分数):0.01%~0.03%

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本标准规定了电感耦合等离子体原子发射光谱法测定直接还原铁中硅、锰、磷、钒、钛、铜、铝、砷、镁、钙、钾、钠含量的方法本标准适用于直接还原铁中下列元素的测定,各元素测定范围见表1

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本标准规定了电感耦合等离子体发射光谱法测定多晶硅用高纯石墨制品中铝、钙、铜、铁、钾、镁、钠、磷、砷、锌、镍、铬、硼含量的方法本标准适用于多晶硅用高纯石墨制品中铝、钙、铜、铁、钾、镁、钠、磷、砷、锌、镍、铬、硼含量的测定,测定范围见表1

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