【团体标准】半导体外延用碳化硅涂层石墨基座技术规范

本网站发布时间： 2025-06-12

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标准简介

本文件适用于以高纯等静压石墨为基材，经加工、纯化、化学气相沉积、表面处理、清洗等工艺过程制备的超高纯半导体外延用碳化硅石墨基座制品。

标准号：
T/CASME 2000-2025
标准名称：
半导体外延用碳化硅涂层石墨基座技术规范
英文名称：
Technical Specification for Silicon Carbide Coated Graphite Substrate for Semiconductor Epitaxy
标准状态：
现行
发布日期：
2025-06-06
实施日期：
2025-07-06
出版语种：

起草人：
余盛杰、廖家豪、窦坤鹏、赵世贵、杨波、朱刚、李江涛、盛后泉、杨捷、孙威、邓南军、丁雄杰、刘薇、朱亦辉、刘涛涛、李庆甲、杨延辉、陈闻杰、李华、任国静、张亚栋
起草单位：
湖南德智新材料股份有限公司、成都方大炭炭复合材料股份有限公司、江苏宏基高新材料股份有限公司、湖南泰坦未来科技有限公司、广东天域半导体股份有限公司、安徽凯威半导体科技有限公司、河南锐瓷科技有限公司、辽宁汉京半导体材料有限公司、内蒙古京航特碳科技有限公司、广东精瓷新材料有限公司、通标国华标准技术咨询（北京）有限公司、华兴中科标准技术（北京）有限公司
归口单位：
中国中小商业企业协会
提出部门：
中国中小商业企业协会
发布部门：
中国中小商业企业协会

【团体标准】 半导体外延用碳化硅涂层石墨基座技术规范