【团体标准】制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

本网站发布时间： 2023-11-06

T/ZJATA 0017-2023
现行
定价：无文本 / 折扣价： 0 元
在线阅读

开通会员免费在线看70000余条国内标准，赠送文本下载次数，单本最低仅合13.3元！还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权！查看详情>>

标准简介

适用范围：

本文件规定了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备（以下简称碳化硅外延设备）的产品分类、标记、组成及基本参数、工作条件、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输与贮存、质量承诺。本文件适用于采用化学气相沉积法(CVD)技术加工100mm（4英寸）、150mm（6英寸）和200mm（8英寸）SiC晶片的碳化硅外延设备。

基本信息

标准号：
T/ZJATA 0017-2023
标准名称：
制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备
英文名称：
标准状态：
现行
发布日期：
2023-06-20
实施日期：
2023-07-20
出版语种：

标准分类号

标准ICS号：
31.220.01
中标分类号：

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
字数：
开本：

其他信息

起草人：
曹建伟、朱亮、傅林坚、张俊、周建灿、刘毅、沈文杰、金玲飞、刘丹丹、余婷、楼科利、朱盛霞
起草单位：
浙江求是半导体设备有限公司、浙江晶盛机电股份有限公司、浙江求是创芯半导体设备有限公司、中国质量认证中心杭州分中心
归口单位：
浙江省分析测试协会
提出部门：
浙江省分析测试协会
发布部门：
浙江省分析测试协会

其它标准

上一篇： T/ZJATA 0016-2023 化学实验反应风险评估与预防技术规范
下一篇： T/ZJATA 0018-2023 水稻转基因序列检测高通量全基因组测序法

推荐标准

【团体标准】 制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备