【团体标准】碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法

本网站发布时间： 2023-11-06

T/CASAS 032-2023
现行
定价：无文本 / 折扣价： 0 元
在线阅读

开通会员免费在线看70000余条国内标准，赠送文本下载次数，单本最低仅合13.3元！还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权！查看详情>>

标准简介

适用范围：

本文件描述了电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅晶片表面金属元素含量的方法。本文件适用于碳化硅单晶抛光片和碳化硅外延片表面痕量金属钠、铝、钾、钙、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、银、钨、金、汞等元素含量的测定，测定范围为108cm-2～1012cm-2。本文件适用于100mm(4吋)～200mm(8吋)碳化硅原生晶片、碳化硅退火片等无图形碳化硅晶片表面痕量金属元素含量的测定。注：碳化硅晶片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。

基本信息

标准号：
T/CASAS 032-2023
标准名称：
碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法
英文名称：
Test method for the content of metal elements on the surface of silicon carbide wafer—Inductively coupled plasma mass spectrometry
标准状态：
现行
发布日期：
2023-06-19
实施日期：
2023-06-19
出版语种：

标准分类号

标准ICS号：
31-030
中标分类号：

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
字数：
开本：

其他信息

起草人：
崔潆心、陈秀芳、谢雪健、杨祥龙、徐现刚、来玲玲、于国建、冯淦、丁雄杰、秋琪、林云昊、赵海明、钮应喜、金向军、徐瑞鹏
起草单位：
山东大学、广州南砂晶圆半导体技术有限公司、瀚天天成电子科技(厦门)有限公司、广东天域半导体股份有限公司、泰科天润半导体科技（北京）有限公司、杭州海乾半导体有限公司、安徽长飞先进半导体有限公司、中国科学院半导体研究所、中电化合物半导体有限公司、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
归口单位：
北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
提出部门：
北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
发布部门：
北京第三代半导体产业技术创新战略联盟

其它标准

上一篇： T/CASAS 031-2023 面向5G基站应用的Sub-6GHz氮化镓功放模块测试方法
下一篇： T/CASC 0001-2023 建筑供应链金融业务应用指南

推荐标准

中国标准在线服务网

【团体标准】 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法