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【团体标准】 光学临近校正(OPC)模型仿真软件建模输入数据结构

本网站 发布时间: 2025-04-23
  • T/EDASQUARE 010-2023
  • 现行
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标准简介标准简介

适用范围:

规定了晶圆图形量测数据的基本格式、光刻工艺参数表的基本格式、所涉及底层薄膜结构参数的基本格式和所涉及光刻掩膜的三维结构参数基本格式等,对OPC建模仿真软件的输入数据结构进行了标准化规范。

基本信息

  • 标准号:

    T/EDASQUARE 010-2023

  • 标准名称:

    光学临近校正(OPC)模型仿真软件建模输入数据结构

  • 英文名称:

    Data structure for Optical Proximity Correction (OPC) software modeling simulation
  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2023-09-10
  • 实施日期:

    2023-09-10
  • 出版语种:

标准分类号

  • 标准ICS号:

    31.200
  • 中标分类号:

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

出版信息

  • 页数:

  • 字数:

  • 开本:

其他信息

  • 起草人:

    广东工业大学、全芯智造技术有限公司、东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司、墨研计算科学(南京)有限公司、中国科学院微电子所研究院、深圳市海思半导体有限公司、中国电子技术标准化研究院、上海概伦电子股份有限公司
  • 起草单位:

    沈逸江、孟晓东、施伟杰、沈忱、崔绍春、钟政、马旭、陈岚、陈容、李思坤、董哲、张薇、王虎、林薇、刘云举、刘娅琳、王亚丽、孙拓华、刘舒宁、刘杰、刘晓明
  • 归口单位:

    上海电子设计自动化发展促进会
  • 提出部门:

    上海电子设计自动化发展促进会
  • 发布部门:

    上海电子设计自动化发展促进会