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【团体标准】 低维半导体材料生长、表征及电子元器件制作流程规范

本网站 发布时间： 2025-03-11
  • T/CI 544-2024
  • 现行
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标准简介标准简介

适用范围：

本文件规定了低维半导体材料生长、表征及电子元器件制作的总则、电子元器件制作流程、检验与测试。本文件适用于低维半导体材料生长、表征及电子元器件制作流程。

基本信息

  • 标准号：

    T/CI 544-2024

  • 标准名称：

    低维半导体材料生长、表征及电子元器件制作流程规范

  • 英文名称：

    Processspecification forgrowth, characterization, and electronicdevice fabrication oflow-dimensionalsemiconductormaterials

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2024-10-08

  • 实施日期：

    2024-10-08

  • 出版语种：

标准分类号

  • 标准ICS号：

    31.080.01

  • 中标分类号：

    L43

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

  • 字数：

  • 开本：

其他信息

  • 起草人：

    刘宏、周伟家、逄金波、王业亮、杨国锋、朱京平、牛智川、高娜、秦敬凯、刘雪飞、高健智、王迪、许向鹏、张墅野、毕津顺、赵鸿滨、刘瑞、李春生、杨睿、逄军、王德周

  • 起草单位：

    济南大学 、北京理工大学 、西安交通大学 、江南大学 、中国科学院半导体研究所 、哈尔滨工业大学 、哈尔滨工业大学(深圳) 、厦门大学 、贵州师范大学 、陕西师范大学 、苏州基元科技有 限公司 、中国有研科技集团有限公司 、哈尔滨工业大学重庆研究院 、苏州科技大学 、上海交通大学 、青岛 亦有道农业科技有限公司 ,北京高科中创科学技术中心

  • 归口单位：

    中国国际科技促进会

  • 提出部门：

    中国国际科技促进会

  • 发布部门：

    中国国际科技促进会
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