【团体标准】化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷

本网站发布时间： 2025-05-17

开通会员免费在线看70000余条国内标准，赠送文本下载次数，单本最低仅合13.3元！还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权！查看详情>>

标准简介

本文件规定了化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷的设计、生产、检验和使用。

标准号：
T/CITS 371-2025
标准名称：
化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷
英文名称：
Electronic grade tetramethoxysilane for chemical mechanical polishing （CMP） abrasives
标准状态：
现行
发布日期：
2025-04-28
实施日期：
2025-04-28
出版语种：

起草人：
康利彬、袁坤、程洁、冯琼华、梅燕、沈俊、舒佳鹏、王成鑫、戴媛静、张保国、李晓莲、张泽芳、范渊卿、蔡涛、黄啸、陈文娟、周述军、肖俊平、黄煜华、刘岩、吴永利、汪贤峰、贾国蕊、徐敬铭、包瑾
起草单位：
山东科翰硅源新材料有限公司、湖北硅元新材料科技有限公司、中国矿业大学（北京）、湖北中誉新材料有限公司、北京工业大学、宁夏胜蓝化工环保科技有限公司、湖北兴振科技有限公司、福州大学、清华大学天津高端装备研究院、河北工业大学、大连理工大学、浙江博来纳润电子材料有限公司、通标中恒标准化技术研究院（北京）有限公司
归口单位：
中国检验检测学会
提出部门：
中国检验检测学会
发布部门：
中国检验检测学会

【团体标准】 化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷