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【团体标准】 化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘

本网站 发布时间： 2024-03-05
  • T/CEPEA 0102-2023
  • 现行
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标准简介标准简介

适用范围：

静电卡盘是在具较高相对介电常数的电介质材料内部设置具有特定功能结构的电极组图案，通过混凝、烧结、键合等一体化工艺制造而成。本文件界定了化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘的术语和定义，规定了其结构和分类、工作条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。

基本信息

  • 标准号：

    T/CEPEA 0102-2023

  • 标准名称：

    化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘

  • 英文名称：

    Electrostatic chuck for etching process of compound semiconductor devices

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2024-03-01

  • 实施日期：

    2024-03-15

  • 出版语种：

标准分类号

  • 标准ICS号：

    31.220.01

  • 中标分类号：

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

  • 字数：

  • 开本：

其他信息

  • 起草人：

    孙文彬 高阔 刘斌 施广彦

  • 起草单位：

    无锡邑文微电子科技股份有限公司、广东海拓创新技术有限公司、浏阳泰科天润半导体科技有限公司

  • 归口单位：

    中国电子专用设备工业协会

  • 提出部门：

    中国电子专用设备工业协会

  • 发布部门：

    中国电子专用设备工业协会
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  • 国家标准计划

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