【团体标准】电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材技术条件

本网站发布时间： 2025-04-23

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标准简介

本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆（ZrO2(HfO2)-7~8wt.%Y2O3）原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证，标志、包装、运输和贮存等。本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。

标准号：
T/CSEA 26-2023
标准名称：
电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材技术条件
英文名称：
Technical specification of 8YSZ target for Electron Beam Physical Vapor Deposition
标准状态：
现行
发布日期：
2023-02-07
实施日期：
2023-03-01
出版语种：

【团体标准】 电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材技术条件