标准详细信息 去购物车结算

【团体标准】 多层金属薄膜层结构测量分析方法X射线光电子能谱

本网站 发布时间: 2024-01-10
  • T/CSTM 01199-2024
  • 现行
  • 定价: 无文本 / 折扣价: 0
  • 在线阅读
开通会员免费在线看70000余条国内标准,赠送文本下载次数,单本最低仅合13.3元!还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权!   查看详情>>
标准简介标准简介

适用范围:

本文件规定了X射线光电子能谱仪(XPS)深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70nm~240nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。

基本信息

  • 标准号:

    T/CSTM 01199-2024

  • 标准名称:

    多层金属薄膜层结构测量分析方法X射线光电子能谱

  • 英文名称:

    Multilayer metal film-Measurement and analysis method of layer structure-X-ray photoelectron spectroscopy
  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2024-01-05
  • 实施日期:

    2024-04-05
  • 出版语种:

标准分类号

  • 标准ICS号:

    29.045
  • 中标分类号:

    H80

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

出版信息

  • 页数:

  • 字数:

  • 开本:

其他信息

  • 起草人:

    范燕 卓尚军 严楷 王双 李林清 王海 杨秋,江柯敏 刘海全 谭晓逸 谭军 白敬胜
  • 起草单位:

    季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院(广州)有限公司
  • 归口单位:

    中关村材料试验技术联盟
  • 提出部门:

    中关村材料试验技术联盟
  • 发布部门:

    中关村材料试验技术联盟