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- T/CSTM 01199-2024 多层金属薄膜层结构测量分析方法X射线光电子能谱
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标准简介
适用范围:
本文件规定了X射线光电子能谱仪(XPS)深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70nm~240nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。
标准号:
T/CSTM 01199-2024
标准名称:
多层金属薄膜层结构测量分析方法X射线光电子能谱
英文名称:
Multilayer metal film-Measurement and analysis method of layer structure-X-ray photoelectron spectroscopy标准状态:
现行-
发布日期:
2024-01-05 -
实施日期:
2024-04-05 出版语种: