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【团体标准】 半导体材料痕量杂质分析用超纯树脂器皿

本网站 发布时间: 2023-11-06
  • T/CNIA 0143-2022
  • 现行
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标准简介标准简介

适用范围:

本文件规定了半导体材料痕量杂质(ng/kg~μg/kg级别)分析用超纯树脂器皿(以下简称器皿)的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容。

基本信息

  • 标准号:

    T/CNIA 0143-2022

  • 标准名称:

    半导体材料痕量杂质分析用超纯树脂器皿

  • 英文名称:

  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2022-02-28
  • 实施日期:

    2022-08-01
  • 出版语种:

标准分类号

  • 标准ICS号:

    71.040.20
  • 中标分类号:

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

出版信息

  • 页数:

  • 字数:

  • 开本:

其他信息

  • 起草人:

    鲁文锋、胡军波、刘晓霞、刘翠、王桃霞、邱艳梅
  • 起草单位:

    江苏赛夫特半导体材料检测技术有限公司、北京诚驿恒仪科技有限公司、苏州汉谱埃文材料科技有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、集萃新材料研发有限公司、新特能源股份有限公司
  • 归口单位:

    中国有色金属工业协会
  • 提出部门:

    中国有色金属工业协会
  • 发布部门:

    中国有色金属工业协会