中国标准在线服务网

标准详细信息 去购物车结算

【团体标准】 高功率脉冲磁控溅射PVD设备技术要求

本网站 发布时间: 2026-04-15
  • T/CI 1333-2025
  • 现行
  • 定价: 0元 / 折扣价: 0
  • 在线阅读
开通会员免费在线看70000余条国内标准,赠送文本下载次数,单本最低仅合13.3元!还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权!   查看详情>>
标准简介标准简介

适用范围:

本文件规定了高功率脉冲磁控溅射PVD设备的设备组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输与贮存。本文件适用于峰值功率密度不小于500W/cm2的脉冲磁控溅射PVD设备。

基本信息

  • 标准号:

    T/CI 1333-2025

  • 标准名称:

    高功率脉冲磁控溅射PVD设备技术要求

  • 英文名称:

    The requirement of high-power impulse magnetron sputtering PVD equipment
  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2025-12-12
  • 实施日期:

    2025-12-12
  • 出版语种:

标准分类号

  • 标准ICS号:

    23.160
  • 中标分类号:

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

出版信息

  • 页数:

  • 字数:

  • 开本:

其他信息

  • 起草人:

    胡中军、王俊锋、田修波、张心凤、周海龙、胡恒宁、谭卓鹏、殷磊、杜昊、姜金龙、魏智博、耿慧远、陈亚奋、林炯康、朱昆、莫科伟、曹志强、周敏、夏正卫、郑博鸿、施杰、唐德礼、邱联昌、唐正强、邵明昊、郭朝乾、王树晓、李彬、伍志军、马昊鹏、刘谋苗、赵小安、李瑞、陈虹蓉
  • 起草单位:

    北京北方华创真空技术有限公司、广东鼎泰机器人科技有限公司、新铂科技(东莞)有限公司、安徽纯源镀膜科技有限公司、安徽越好电子装备有限公司、成都工具研究所有限公司、上海源创同章表面涂层科技有限公司、赣州澳克泰工具技术有限公司、贵州大学、烟台先进材料与绿色制造山东省实验室、苏州精新汇能电源科技有限公司、哈尔滨工业大学、广东华升纳米科技股份有限公司、深圳市瀚强科技股份有限公司、广东省新兴激光等离子体技术研究院、吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司
  • 归口单位:

    中国国际科技促进会
  • 提出部门:

    中国国际科技促进会
  • 发布部门:

    中国国际科技促进会