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- T/CI 1333-2025 高功率脉冲磁控溅射PVD设备技术要求
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适用范围:
本文件规定了高功率脉冲磁控溅射PVD设备的设备组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输与贮存。本文件适用于峰值功率密度不小于500W/cm2的脉冲磁控溅射PVD设备。
标准号:
T/CI 1333-2025
标准名称:
高功率脉冲磁控溅射PVD设备技术要求
英文名称:
The requirement of high-power impulse magnetron sputtering PVD equipment标准状态:
现行-
发布日期:
2025-12-12 -
实施日期:
2025-12-12 出版语种:
起草人:
胡中军、王俊锋、田修波、张心凤、周海龙、胡恒宁、谭卓鹏、殷磊、杜昊、姜金龙、魏智博、耿慧远、陈亚奋、林炯康、朱昆、莫科伟、曹志强、周敏、夏正卫、郑博鸿、施杰、唐德礼、邱联昌、唐正强、邵明昊、郭朝乾、王树晓、李彬、伍志军、马昊鹏、刘谋苗、赵小安、李瑞、陈虹蓉起草单位:
北京北方华创真空技术有限公司、广东鼎泰机器人科技有限公司、新铂科技(东莞)有限公司、安徽纯源镀膜科技有限公司、安徽越好电子装备有限公司、成都工具研究所有限公司、上海源创同章表面涂层科技有限公司、赣州澳克泰工具技术有限公司、贵州大学、烟台先进材料与绿色制造山东省实验室、苏州精新汇能电源科技有限公司、哈尔滨工业大学、广东华升纳米科技股份有限公司、深圳市瀚强科技股份有限公司、广东省新兴激光等离子体技术研究院、吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司归口单位:
中国国际科技促进会提出部门:
中国国际科技促进会发布部门:
中国国际科技促进会
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