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【国家标准】 硅单晶电阻率测定方法

本网站 发布时间: 2021-12-01
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适用范围:

本方法规定了用直排四探针法测量硅单晶电阻率的方法。本方法适用于测量试样厚度和从试样边缘与任一探针端点的最近距离二者均大于探针间距的4倍的硅单晶体电阻率以及测量直径大于探针间距10倍、厚度小于探针间距4倍的硅单晶圆片的电阻率。本方法可测定的硅单晶电阻率范围为1×10 -3 Ω·cm~3×10 3 Ω·cm。

基本信息

  • 标准号:

    GB/T 1551-2009

  • 标准名称:

    硅单晶电阻率测定方法

  • 英文名称:

    Test method for measuring resistivity of monocrystal silicon
  • 标准状态:

    被代替
  • 发布日期:

    2009-10-30
  • 实施日期:

    2010-06-01
  • 出版语种:

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号:

    29.045
  • 中标分类号:

    H80

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

    《硅片电阻率测定四探针法》;《硅棒电阻率测定两探针法》 MOD 修改采用

出版信息

  • 页数:

    24 页
  • 字数:

    35 千字
  • 开本:

    大16 开

其他信息

  • 起草人:

    李静 何秀坤 张继荣 段曙光
  • 起草单位:

    信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所
  • 归口单位:

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
  • 提出部门:

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 发布部门:

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
  • 推荐标准
  • 国家标准计划