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GB/T 14599-1993 高纯氧 被代替 发布日期 :  1993-08-26 实施日期 :  1994-07-01

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GB/T 14602-1993 电子工业用气体 氯化氢 被代替 发布日期 :  1993-08-26 实施日期 :  1994-07-01

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GB/T 14605-1993 氧气中微量氩、氮和氪的测定 气相色谱法 被代替 发布日期 :  1993-08-26 实施日期 :  1994-07-01

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GB/T 14850-1993 气体分析词汇 被代替 发布日期 :  1993-12-30 实施日期 :  1994-10-01

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GB/T 17874-1999 电子工业用气体 三氯化硼 被代替 发布日期 :  1999-09-16 实施日期 :  2000-06-01

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GB/T 17874-2010 电子工业用气体 三氯化硼 被代替 发布日期 :  2011-01-14 实施日期 :  2011-05-01

本标准规定了三氯化硼的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于以粗制三氯化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氯化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺。
分子式:BCl3。
相对分子质量:117.1691(按2007年国际相对原子质量计算)。

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GB/T 3864-1996 工业氮 被代替 发布日期 :  1996-12-02 实施日期 :  1997-05-01

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GB/T 15909-2009 电子工业用气体 硅烷(SiH4) 被代替 发布日期 :  2009-10-30 实施日期 :  2010-05-01

本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。
分子式:SiH4。
相对分子质量:32.117(按2005年国际相对原子质量)。

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GB/T 16942-1997 电子工业用气体 氢 被代替 发布日期 :  1997-08-13 实施日期 :  1998-05-01

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GB/T 16943-1997 电子工业用气体 氦 被代替 发布日期 :  1997-08-13 实施日期 :  1998-05-01

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GB/T 16944-1997 电子工业用气体 氮 被代替 发布日期 :  1997-08-13 实施日期 :  1998-05-01

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GB/T 4842-2006 被代替 发布日期 :  2006-09-01 实施日期 :  2007-02-01

本标准规定了纯氩、高纯氩的要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于深冷法从空气、合成氨尾气中提取的气态和液态纯氩和高纯氩,以及经净化方法得到的纯氩和高纯氩。它们主要用于金属冶炼与焊接、半导体制造、电光源、标准样品的制备、科学研究等行业。 分子式:Ar。 相对分子质量:39.948(按2001年国际相对原子质量)。

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GB/T 4844.3-1995 高纯氦 被代替 发布日期 :  1995-12-20 实施日期 :  1996-08-01

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GB/T 5275的本部分规定了通过临界锐孔系统用纯气或混合气连续制备两种或多种组分的校准混合气体的方法。通过选择适合的锐孔组合并配合纯气的使用,校准组分在校准混合气体中的体积分数可以以104为系数变化。另外通过改变锐孔系统的初始压力可使校准组分的体积分数以102为系数变化。临界锐孔法的不确定度主要取决于流量校准方法、温度变化以及出口压力。二元混合气体可得到的体积分数相对扩展不确定度(在包含因子k=2时)为3% 。
使用预混气体而不是纯气可制备体积分数低得多的混合气体(参见附录A)。确定质量或体积分数的质量流量或体积流量,可通过计算得出,也可采用ISO 61451给出的适当方法单独测量。
这种制备方法的优点是可连续制备大量混合气体,并且只要使用适当数量的锐孔,制备多组分混合气体就如制备二元混合气体一样容易。流量范围可从每分钟几毫升到每分钟10 L。
本方法特别适用于在大气压力下制备混合气体,但也可在高于大气压的压力下制备混合气体。
使用本方法的实用提示参见附录B。

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GB/T 5828-1995 氙气 被代替 发布日期 :  1995-12-20 实施日期 :  1996-08-01

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