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【国家标准】 电子工业用气体　硅烷(SiH4)

本网站 发布时间： 2017-12-01
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适用范围：

本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。
本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。
分子式：SiH4。
相对分子质量：32.117（按2005年国际相对原子质量）。

读者对象：

半导体材料和设备标准、技术、管理、营销等相关人员。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 15909-2009

  • 标准名称：

    电子工业用气体　硅烷(SiH4)

  • 英文名称：

    Gas for electronic industry—Silane

  • 标准状态：

    被代替

  • 发布日期：

    2009-10-30

  • 实施日期：

    2010-05-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    71.100.20

  • 中标分类号：

    G86

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

    12 页

  • 字数：

    14 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    余京松、周鹏云

  • 起草单位：

    浙江大学材化学院半导体材料研究所、西南化工研究设计院

  • 归口单位：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会

  • 提出部门：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会

  • 发布部门：

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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