本文件为雇主、责任人、激光安全员、激光操作者和其他相关人员提供指南，指导1C、3B或4类的激光器和激光设备对人体介入应用的安全使用，不包括消费品的使用。
注1：激光设备的使用场所包括但不限于医疗场所、牙科护理、理疗、美容和整形场所。
注2：有关中国市场的产品标识的内容见GB 44703。
本文件说明了为激光操作者、患者、顾客、员工、维护人员和其他人员的安全所推荐的控制措施。为了更好地理解防护的基本原则，本文件简要描述了激光设备或装置的工程控制。
本文件涵盖的范围包括：
——光束传输系统；
——激光辐射的生物效应；
——事故和危险情况报告；
——检查清单。
本文件适用于GB/T 7247.1—2024所述的激光产品。
本文件不包括医疗相关的建议，比如关于治疗适应证、禁忌证、患者或顾客状态、医疗或美容治疗程序、斑贴试验、药物、不良组织或皮肤状态以及随访控制。

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本文件规定了紫外线灯产品[包括紫外线发光二极管(UVLED)灯产品]的光辐射安全要求,光辐射安全评估和紫外线灯产品风险等级的要求,给出了用户使用安全措施相关信息以及紫外线灯产品的相应标识。
本文件适用于以紫外辐射为主要用途的灯和灯系统,且180 nm⁓3000 nm 发射的辐射功率有一半以上位于180 nm⁓400 nm 的光谱范围内。如果180 nm⁓3000 nm 发出的光辐射有一半以上不在180 nm⁓400 nm 的光谱区内,则使用GB/T 30117.1—2024。本文件适用于主要发射紫外辐射的医疗诊断和美容设备或产品。

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本文件规定了激光产品和非相干光产品及其工作过程的光辐射安全的风险分级、标识和安全控制等方面的通用要求。
本文件适用于180 nm～1 mm波段范围内的激光产品和200 nm～3 μm波段范围内的非相干光产品及其工作过程的光辐射安全。

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本文件根据GB/T 7247.1—2024给出了激光产品的安全使用最佳指南。本文件使用的术语“激光产品”和“激光设备”是涉及所有由受激发射而产生光辐射的装置、组件或系统。
1类激光产品通常不产生光束危害，2类和3R类只产生极小的危害。这些产品的安全使用通常遵守产品的警告标志和制造商的安全操作指南即可。本文件描述的进一步防护措施对于1类、2类和3R类激光产品不是必需的。
注： 有关中国市场的产品标识的内容见GB 44703。
本文件强调评估高功率激光器的风险，但低功率激光器的用户也能从这些信息中受益。
本文件适用于任何已售或待售包含激光器的产品，也适用于特殊构造的激光器(包括试验和样机系统)。

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GB/T 26599的本部分规定了激光光束的光束宽度（直径）、发散角与光束传输比的测量方法。GB/T 26599 的本部分仅适用于无像散和简单像散光束。如果光束的类型未知，或者光束是广义像散光束，则本部分不适用。

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本标准规定了激光棒单程损耗系数的测量方法。
本标准适用于直径不小于4 mm且波长为激光棒工作波长的光波能透过的激光棒。

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本文件描述了在波长1 064 nm的激光腔内测量掺钕钇铝石榴石激光棒的激光性能的测量方法。
本文件适用于掺钕钇铝石榴石激光棒（发出波长为1 064 nm的棒状固体激光工作物质）的激光阈值、斜率效率、动态消光比和激光损伤阈值的测量，钕铈双掺钇铝石榴石、掺钕玻璃及陶瓷等其他类似材料或相近形状或其他工作波长的激光棒的激光性能测量参照使用。

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GB/T 30117的本部分规定了专业场所内强脉冲光(IPL)设备的安全使用准则。
本部分对接触到IPL的治疗、操作、维修及其他人员的安全控制措施提出了建议。为了便于对防护原则的理解，简要描述了IPL设备或装置的工程控制措施。

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GB/T 30117的本部分规定了投影仪发射光辐射的光生物安全要求。GB/T 30117的本部分不涉及诸如电气、机械或火灾隐患等其他危害。

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本标准规定了半导体激光器的通用要求，包括术语和定义、分类、技术要求、测试要求、检验规则、标志、包装、运输和贮存。
本标准适用于半导体激光器的研制、生产和交付等。半导体激光器组件可参考执行。

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本标准规定了半导体激光器主要光电参数的测试方法。
本标准适用于半导体激光器主要光电参数的测试。半导体激光器组件可参考执行。

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本标准规定了普通照明用LED产品(以下简称LED产品)的光辐射安全要求；确立了LED产品光辐射安全评估以及光辐射危害分类的一般原则；给出了LED产品光辐射安全防护措施的指南。
本标准适用于主要发射波长为可见光(380 nm~780 nm)的各类普通照明用LED产品的生产、检测和使用。

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本文件提供了高功率激光制造设备安全运行程序的指导和建议。给出了设备文件及记录，安装和使用环境检查评估，激光辐射危害评估，非光辐射危害评估，标识标记检查，控制措施检查，以及激光安全员、激光安全管理委员会和安全培训等环节中与需考虑要点有关的信息。本文件适用于预期用于工业制造以及预期不用于工业制造，但可能会被用户在合理条件下用于制造的3B类或4类激光产品，包括嵌入3B类或4类激光光源的制造设备。本文件不适用于包括娱乐、演示、校准、测量、教育和医疗等用途的激光产品。

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本文件界定了微透镜阵列的术语和定义。本文件适用于在同一基片的内部或表面上的微透镜阵列及其系统。

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本文件描述了激光光学元件的吸收测量和高空间分辨率二维/三维扫描吸收分布成像测量方法。采用光热测量方法，通过标定实现激光光学元件的吸收测量，通过位置扫描实现吸收分布测量。
本文件适用于激光光学元件二维/三维吸收分布成像测量，即测量吸收与位置的函数，用于高功率/高能激光系统中的大口径光学元件的吸收缺陷/吸收分布检测。

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