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本文件规定了干式化学分析仪的术语和定义、要求、评价方法和评价报告。本文件适用于食品检测用干式化学分析仪的性能评价。本文件不适用于荧光免疫检测原理的干式化学分析仪。
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为使俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质谱的仪器设定达到深度分辨的优化目的,本标准采用适当的单层和多层膜系参考物质,提供优化溅射深度剖析参数的指南。 特殊多层膜系(如各种掺杂层膜系)的使用不包括在本标准内。
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本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质(用注入硼的参考物质校准)确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10 16 atoms/cm 3~1×10 20 atoms/cm3。
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