本标准规定了高纯镓中的铜、铅、锌、铟、铁、锡、镍、镁、钴、铬、锰、钛、铷、钼、铋等痕量元素含量的测定方法。
本标准适用于高纯镓(99.999％＜w(Ga)≤99.999 99％)中铜、铅、锌、铟、铁、锡、镍、镁、钴、铬、锰、钛、铷、钼、铋等痕量元素含量的同时测定。

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本方法规定了铝含量大于99.99%高纯铝中杂质元素的测定方法。
本标准适用于高纯铝中痕量元素含量的测定。测定范围见表1。

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本部分规定了高纯二氧化锗中硅含量的测定方法。
本部分适用于高纯二氧化锗中硅含量的测定。测定范围：质量分数0.000　01％～0.000　1％。

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本部分规定了高纯二氧化锗中铁含量的测定方法。
本部分适用于高纯二氧化锗中铁含量的测定。测定范围：质量分数0.000　005％～0.000　2％。

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本部分规定了高纯铝中铁、钛、镓、铜、锌、铅、铟、镉、银、钴、钼、锑、铋等痕量元素含量的测定方法。

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本部分规定了高纯二氧化锗中砷含量的测定方法。
本部分适用于高纯二氧化锗中砷含量的测定。测定范围：质量分数0.000　002％～0.000　1％。

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本部分规定了高纯二氧化锗中氯含量的测定方法。
本部分适用于高纯二氧化锗中氯含量的测定。测定范围：质量分数0.010%~0.10%。

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本部分规定了高纯二氧化锗中镁、铝、钴、镍、铜、锌、铟、铅、钙、铁和砷含量的测定方法。
本部分适用于高纯二氧化锗中镁、铝、钴、镍、铜、锌、铟、铅、钙、铁和砷含量的测定。测定范围：各元素的质量分数见表1。

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本标准规定了高纯铟的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书和合同（或订货单）内容等。
本标准适用于以工业粗铟为原料，经原料处理及电解精炼等工艺制得的高纯铟。产品供制作化合物半导体、高纯合金、高级轴承及半导体材料的掺杂剂等。

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本标准规定了采用高质量分辨率辉光放电质谱法测定高纯铝中痕量元素的测试方法。
本标准适用于高纯铝中痕量元素含量的测定。各元素测定范围为5.0×10-7%～1.0×10-3%(ω%)。

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本标准规定了高纯钛中痕量元素含量的测定方法，测定元素见表1。
本标准适用于高纯钛中痕量元素含量的测定。各元素测定范围为1.0 μg/kg～5 000 μg/kg。

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本标准规定了高纯钽中痕量元素含量的测定方法，测定元素见表1。
本标准适用于高纯钽中痕量元素含量的测定。除铌、钼、钨外各元素测定范围为1 μg/kg～5　000 μg/kg，铌、钼和钨的测定范围为1 μg/kg～100 000 μg/kg。

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本标准规定了高纯铌中痕量杂质元素的测定方法，测定元素见表1。
本标准适用于高纯铌中痕量杂质元素的测定。除钽、钼、钨外各元素测定范围为1.0 μg/kg～5 000 μg/kg，钽的测定范围为1.0 μg/kg～300 000 μg/kg，钼和钨的测定范围为1.0 μg/kg～100 000 μg/kg。

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本标准规定了高纯钨中痕量元素含量的测定方法，测定元素见表1。
本标准适用于高纯钨中痕量元素含量的测定。各元素测定范围为1 μg/kg～5 000 μg/kg。

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