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【行业标准】 高纯钽化学分析方法　痕量杂质元素的测定　辉光放电质谱法

本网站 发布时间： 2025-06-03
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适用范围：

本标准规定了高纯钽中痕量元素含量的测定方法，测定元素见表1。
本标准适用于高纯钽中痕量元素含量的测定。除铌、钼、钨外各元素测定范围为1 μg/kg～5　000 μg/kg，铌、钼和钨的测定范围为1 μg/kg～100 000 μg/kg。

基本信息

  • 标准号：

    YS/T 899-2013

  • 标准名称：

    高纯钽化学分析方法　痕量杂质元素的测定　辉光放电质谱法

  • 英文名称：

    Methods for chemical analysis of high purity tantalum—Determination of trace impurity element content—Glow discharge mass spectrometry

  • 标准状态：

    废止

  • 发布日期：

    2013-10-17

  • 实施日期：

    2014-03-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    77.120.99

  • 中标分类号：

    H63

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

    8 页

  • 字数：

    8 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    李宝城、刘英、孙泽明、童坚、李继东、臧慕文、李娜、程紫辉、张江峰、邱平、秦芳林、文英、王攀峰

  • 起草单位：

    北京有色金属研究总院、金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司

  • 归口单位：

    全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

  • 提出部门：

  • 发布部门：

    中华人民共和国工业和信息化部
  • 其它标准
  • 推荐标准

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