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T/CFA 0202050201-2018 铸造用生铁 现行 发布日期 :  2018-02-08 实施日期 :  2018-05-01

本标准规定了铸造用高纯生铁的化学成分和牌号及相关技术要求、试验方法、检验规则、质量证明书及运输储存要求等。本标准适用于铸造行业高纯生铁的生产与应用。

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T/CRIAC 0092-2023 试剂乙腈 现行 发布日期 :  2023-12-15 实施日期 :  2023-12-31

本文件规定了高纯试剂乙腈的性状、技术要求、试验方法、检验规则、包装及标志。本文件适用于高纯试剂乙腈的检验。

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T/CFA 0202050201-2011 铸造用生铁 现行 发布日期 :  2011-01-16 实施日期 :  2011-07-01

承德市保通铸铁型材制造有限公司、本溪参铁集团、济南庚辰钢铁有限公司、河北龙凤山铸业有限公司

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T/CI 235-2023 变压吸附(PSA)制氧机 现行 发布日期 :  2023-12-21 实施日期 :  2023-12-21

本文件规定了变压吸附(PSA)高纯制氧机的术语和定义、产品规格及工况条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、随机文件、包装、运输和贮存。本文件适用于在常温下利用氧分子筛变压吸附法(PSA),氮氧从空气中分离制取氧气,并使用氧气纯化装置进行提纯分离出氩气,氧气含量不低于?99%,氧气产量不大于?300?Nm3/h的设备(以下简称“高纯制氧机”)。注1:本文件中氧产量均为标准状态,即?0?℃、0.101325?MPa(绝压)状态下的气体量,单位为立方米(m3)。注2:压力值除注明者外均为表压值。

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T/CISA 288-2022 五氧化二钒 现行 发布日期 :  2022-11-07 实施日期 :  2023-01-01

本文件规定了粉状高纯五氧化二钒的技术要求、试验方法、检验规则和包装、标志、储存、运输及质量证明书。本文件适用于冶金、化工用高纯五氧化二钒。

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T/ICMTIA ESG0021-2022 气体产品采样通则 现行 发布日期 :  2022-05-10 实施日期 :  2022-05-31

本文件规定了与高纯气体分析相关的采样基本原则,采样方案,采样类型,采样系统设计与安全。本文件适用于压力容器或在线管道中的压缩或液化高纯气体,以及部分高纯混合气体的采样。

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T/CI 234-2023 变压吸附(PSA)制氮机 现行 发布日期 :  2023-12-21 实施日期 :  2023-12-21

本文件规定了变压吸附(PSA)高纯制氮机的术语和定义、产品规格及参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、随机文件、包装、运输和贮存。本文件适用于在常温下利用分子筛变压吸附法(PSA),氮氧从空气中分离制取氮气,并通过碳载纯化装置进行提纯,氮气含量不低于?99.999%,氮气产量不大于?800?Nm3/h的设备(以下简称“高纯制氮机”)。注1:本文件中氮产量均为标准状态,即?0?℃、0.101325?MPa(绝压)状态下的气体量,单位为立方米(m3)。注2:压力值除注明者外均为表压值。

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T/SSEA 0086-2020 HIsmelt熔融还原生铁 现行 发布日期 :  2020-12-18 实施日期 :  2020-12-18

本文件规定了HIsmelt熔融还原高纯生铁的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、贮存、运输、标志和质量证明书。本文件适用于HIsmelt熔融还原高纯生铁(以下简称“高纯生铁”)。

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T/CSG 013-2024 工业品氟化锂 现行 发布日期 :  2024-12-16 实施日期 :  2024-12-16

本文件规定了高纯工业品氟化锂的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存。本文件适用于高纯工业品氟化锂。产品主要用于生产氟化玻璃、制作分光计和X射线单色仪的棱镜等以及电池级六氟磷酸锂。

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T/SDAS 840-2024 全氟丁基磺酸钾 现行 发布日期 :  2024-05-24 实施日期 :  2024-06-15

本文件规定了高纯全氟丁基磺酸钾的要求、试验方法、检验规则、标志和随行文件、包装、运输、贮存。本文件适用于以全氟丁基磺酰氟、氢氧化钾等为原料,经成盐、提纯、干燥、粉碎、包装等工序加工而成的高纯全氟丁基磺酸钾。本产品主要用于合成材料的阻燃,特别是聚碳酸酯材料的阻燃剂,也用作中间体合成全氟丁基磺酸、光致产酸剂、表面活性剂等。

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T/QGCML 1060-2023 绿氢纯化装置 现行 发布日期 :  2023-07-20 实施日期 :  2023-07-30

本文件规定了高纯绿氢纯化装置(以下简称“纯化装置”)的术语和定义、基本参数、一般要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于最大处理气量不超过30000m3/h的制取高纯度绿氢的纯化装置。注1:本文件中最大处理气量均为标准状态,即0℃、0.101325MPa(绝压)状态下的最大处理气量。注2:压力值除注明者外均为表压值。

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T/CNIA 0121-2021 电子工业用硫酸 现行 发布日期 :  2021-03-19 实施日期 :  2021-09-01

本文件规定了电子工业用高纯硫酸(以下简称“高纯硫酸”)的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单内容。本文件适用于电子工业用高纯硫酸。

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T/CPUMT 005-2022 高端装备铸造用生铁 现行 发布日期 :  2022-11-08 实施日期 :  2022-11-08

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T/CNIA 0062-2020 电子工业用氢氟酸 现行 发布日期 :  2020-05-27 实施日期 :  2020-08-01

本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单(或合同)内容及安全。本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸(以下简称高纯氢氟酸)。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等。

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T/CNIA 0063-2020 电子工业用硝酸 现行 发布日期 :  2020-05-27 实施日期 :  2021-08-01

本标准规定了电子工业用高纯硝酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单(或合同)内容及安全。本标准适用于电子工业用高纯硝酸(以下简称高纯硝酸)。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等。

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