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GB/T 14146-2021 硅外延层载流子浓度的测试 电容-电压法 现行 发布日期 :  2021-05-21 实施日期 :  2021-12-01

本文件规定了电容电压法测试硅外延层载流子浓度的方法,包括汞探针电容电压法和无接触电容电压法。
本文件适用于同质硅外延层载流子浓度的测试,测试范围为4×1013 cm-3~8×1016 cm-3,其中硅外延层的厚度大于测试偏压下耗尽层深度的两倍。硅单晶抛光片和同质碳化硅外延片载流子浓度的测试也可以参照本文件进行,其中无接触电容电压法不适用于同质碳化硅外延片载流子浓度的测试。

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GB/T 14146-1993 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法 被代替 发布日期 :  1993-02-06 实施日期 :  1993-10-01

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GB/T 14146-2009 硅外延层载流子浓度测定汞探针电容-电压法 被代替 发布日期 :  2009-10-30 实施日期 :  2010-06-01

本标准规定了硅外延层载流子浓度汞探针电容-电压测量方法。本标准测试的硅外延层的厚度必须大于测试偏压下耗尽层的深度。本标准也可适用于硅抛光片的载流子浓度测量。

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