【国家标准】工业硅化学分析方法　第4部分：杂质元素含量的测定　电感耦合等离子体原子发射光谱法

本网站发布时间： 2015-08-03

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标准简介

GB/T 14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。各元素测定范围见表1。

标准号：
GB/T 14849.4-2014
标准名称：
工业硅化学分析方法　第4部分：杂质元素含量的测定　电感耦合等离子体原子发射光谱法
英文名称：
Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of impurity contents—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准状态：
现行
发布日期：
2014-12-05
实施日期：
2015-08-01
出版语种：
中文简体

【国家标准】 工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法