【团体标准】集成电路用28纳米节点光掩模工艺规范

本网站发布时间： 2025-12-24

T/ICMTIA PHM0041-2025
现行
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标准简介

适用范围：

集成电路光掩模28纳米节点制造标准是根据集成电路半导体先进节点芯片端应用要求，对光掩模技术指标及工艺要求采集、管理和使用等方面进行评估的一套准则。如今，随着信息技术的迅速发展，集成电路制造业建设越来越踊跃，光掩模承载芯片设计最基础的数据信息，在信息保护、版权维护方面至关重要。因此建立先进半导体的28纳米节点光掩模制造标准，既可以有效规范先进光掩模材料的制造与管理，也有助于国内集成电路产业链的系统化发展。本标准旨在为国产光掩模制作单位建立一套科学完整合规评价体系提供参考，并希望可以推动国产光掩模制造产业持续优化和完善。本文件规定了集成电路光掩模28纳米节点制造的技术指标、工艺要求、测量方法、检验规则和安全保障条件。本文件适用于集成电路28纳米节点光掩模的制造。

基本信息

标准号：
T/ICMTIA PHM0041-2025
标准名称：
集成电路用28纳米节点光掩模工艺规范
英文名称：
标准状态：
现行
发布日期：
2025-12-17
实施日期：
2026-01-17
出版语种：

标准分类号

标准ICS号：
31-030
中标分类号：

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
字数：
开本：

其他信息

起草人：
广州新锐光掩模科技有限公司、无锡迪思微电子股份有限公司、无锡中微掩模电子有限公司、长沙韶光芯材科技有限公司、江苏路芯半导体技术有限公司、湖南普照信息材料有限公司
起草单位：
郭贵琦、施维、葛海鸣、吕健、华志刚、周家万、李嘉、李弋舟、段聪、尤春、刘维维、廖奕凯、王佳悦
归口单位：
中关村集成电路材料产业技术创新联盟
提出部门：
中关村集成电路材料产业技术创新联盟
发布部门：
中关村集成电路材料产业技术创新联盟

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