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- GB/T 10117-2021 高纯锑
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适用范围:
本文件规定了高纯锑的分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容。
本文件适用于以工业锑为原料,经氯化、精馏、氢气还原、真空蒸馏、区域熔炼或直拉提纯生产工艺制备的高纯锑。
注: 高纯锑主要用于制备ⅢⅤ族化合物半导体材料、高纯合金、热电致冷元件,以及用作硅、锗单晶的掺杂剂。
本文件适用于以工业锑为原料,经氯化、精馏、氢气还原、真空蒸馏、区域熔炼或直拉提纯生产工艺制备的高纯锑。
注: 高纯锑主要用于制备ⅢⅤ族化合物半导体材料、高纯合金、热电致冷元件,以及用作硅、锗单晶的掺杂剂。
标准号:
GB/T 10117-2021
标准名称:
高纯锑
英文名称:
High purity antimonium标准状态:
现行-
发布日期:
2021-12-31 -
实施日期:
2022-07-01 出版语种:
中文简体
起草人:
张程、朱君、黎亚文、雷聪、曾洪、肖伟微、李强、张胜、乐卫华、黄文文、柴晨、普世坤、何建军起草单位:
峨眉山市峨半高纯材料有限公司、峨嵋半导体材料研究所、广东先导稀材股份有限公司、有研国晶辉新材料有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、江苏秦烯新材料有限公司归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)提出部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)发布部门:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
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