【国家标准】高纯锑

本网站发布时间： 2022-07-01

GB/T 10117-2021
现行
定价：29元 / 折扣价： 25 元
加购物车
在线阅读

开通会员免费在线看70000余条国内标准，赠送文本下载次数，单本最低仅合13.3元！还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权！查看详情>>

标准简介

文前页下载

适用范围：

本文件规定了高纯锑的分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容。
本文件适用于以工业锑为原料，经氯化、精馏、氢气还原、真空蒸馏、区域熔炼或直拉提纯生产工艺制备的高纯锑。
注：高纯锑主要用于制备ⅢⅤ族化合物半导体材料、高纯合金、热电致冷元件，以及用作硅、锗单晶的掺杂剂。

基本信息

标准号：
GB/T 10117-2021
标准名称：
高纯锑
英文名称：
High purity antimonium
标准状态：
现行
发布日期：
2021-12-31
实施日期：
2022-07-01
出版语种：
中文简体

标准分类号

标准ICS号：
77.150.99
中标分类号：
H62

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
12 页
字数：
15 千字
开本：
大16 开

其他信息

起草人：
张程、朱君、黎亚文、雷聪、曾洪、肖伟微、李强、张胜、乐卫华、黄文文、柴晨、普世坤、何建军
起草单位：
峨眉山市峨半高纯材料有限公司、峨嵋半导体材料研究所、广东先导稀材股份有限公司、有研国晶辉新材料有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、江苏秦烯新材料有限公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
发布部门：
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会

其它标准

上一篇： GB/T 10117-2009 高纯锑
下一篇： GB/T 10118-1988 高纯镓

推荐标准

【国家标准】 高纯锑