【团体标准】真空等离子表面处理设备及工艺规范

本网站发布时间： 2026-02-10

T/GDCKCJH 125-2026
现行
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标准简介

适用范围：

本文件适用于以真空腔室为处理空间，在5mTorr～2000mTorr等低压环境下，通过射频(RF)或中频(MF)电源将工艺气体激发为等离子体，对工件表面进行清洗、活化、刻蚀或表面改性的真空等离子表面处理设备。本文件不适用于大气等离子表面处理设备，仅用于实验研究的真空等离子诊断装置，以高压放电、弧光放电为主的真空处理设备。

基本信息

标准号：
T/GDCKCJH 125-2026
标准名称：
真空等离子表面处理设备及工艺规范
英文名称：
Vacuum plasma surface treatment equipment and process specifications
标准状态：
现行
发布日期：
2026-02-06
实施日期：
2026-02-10
出版语种：

标准分类号

标准ICS号：
29.220.01
中标分类号：
K82

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
字数：
开本：

其他信息

起草人：
冼健威、薛家祥、欧宁、田艳艳、孙俊、陈洪高、马金虎、张新平、岳行山、侯振健、汤水泉、白力国、龙昌东、杨文敏、黄家福、邓雅伦
起草单位：
东莞市晟鼎精密仪器有限公司、华南理工大学、广东斯泰克电子科技有限公司、大湾区大学
归口单位：
广东省测量控制技术与装备应用促进会
提出部门：
广东省测量控制技术与装备应用促进会
发布部门：
广东省测量控制技术与装备应用促进会

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