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- T/CEMIA 042-2024 半导体硅片清洗用石英槽
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适用范围:
本文件规定了半导体硅片清洗用石英槽的术语和定义、分类和标记、材料、要求、试验方法、检验规则以及标识、清洗、包装、运输和贮存。本文件适用于半导体硅片清洗用石英槽,以下简称石英槽。
标准号:
T/CEMIA 042-2024
标准名称:
半导体硅片清洗用石英槽
英文名称:
Quartz tank for semi-conductor silicon wafer cleaning标准状态:
现行-
发布日期:
2024-11-05 -
实施日期:
2025-01-15 出版语种:
起草人:
杨军、吴然红、张荣、张鑫江、郑明山、王慧、钱卫刚、秦卫光、叶国闽、宋贤、高君、李来斌、周文华、蓝呈、张娟、张忠恕、盛文彬、沈根法、孔凡昌、汤芳、卫令中起草单位:
浙江富乐德石英科技有限公司、中国建筑材料科学研究总院有限公司、中国国检测试控股集团股份有限公司、江苏太平洋石英股份有限公司、久智光电子材料科技有限公司、浙江富同石英新材料有限公司、上海强华实业股份有限公司、辽宁汉京半导体材料有限公司、北京凯德石英股份有限公司、浙江奥博石英科技股份有限公司、东海县奥博石英制品有限公司、浙江浩锐石英科技有限公司、湖州东科电子石英股份有限公司归口单位:
中国电子材料行业协会提出部门:
中国电子材料行业协会发布部门:
中国电子材料行业协会
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