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【国家标准】 光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法

本网站 发布时间: 2025-02-05
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适用范围:

本文件描述了采用夏克-哈特曼法测量光学系统波前像差的原理及方法、测量条件、设备及装置、测量步骤以及测量数据处理。
本文件适用于采用夏克-哈特曼法测量光学系统波前像差的测量,也适用于光学零件面形偏差的测量。

基本信息

  • 标准号:

    GB/T 44221-2024

  • 标准名称:

    光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法

  • 英文名称:

    Determination of wavefront aberration in optical systems—Electro-optical Shack-Hartmann method
  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2024-07-24
  • 实施日期:

    2025-02-01
  • 出版语种:

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号:

    17.180.99
  • 中标分类号:

    L50

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

出版信息

  • 页数:

    24 页
  • 字数:

    31 千字
  • 开本:

    大16 开

其他信息

  • 起草人:

    史国华、邢利娜、何益、杨金生、蔡建奇、王璞、刘春雨、韩森、洪宝玉、冯长有、包明帝、叶虹、谢桂华、伍开军、沈晨雁、郝华东
  • 起草单位:

    中国科学院苏州生物医学工程技术研究所、中国科学院光电技术研究所、中国标准化研究院、中国科学院空天信息创新研究院、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、苏州慧利仪器有限责任公司、中国计量科学研究院、长春奥普光电技术股份有限公司、浙江舜宇光学有限公司、成都科奥达光电技术有限公司、苏州一光仪器有限公司、舟山市质量技术监督检测研究院
  • 归口单位:

    全国光测量标准化技术委员会(SAC/TC 487)
  • 提出部门:

    中国科学院
  • 发布部门:

    国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会