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本标准规定了常规分析中一种评估X射线光电子能谱仪强度标的重复性和一致性的方法,采用非单色Al/Mg或单色Al X射线源。本标准只适用于装有溅射离子枪的仪器。本标准不做强度/能量响应函数的校准。此校准应由仪器制造厂家或其他合格机构完成。本标准提供的数据用于评估和确认仪器使用期间强度/能量响应函数保持恒定的准确度。本标准提供了一些可能会影响一致性的仪器设置指导意见。
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本标准规定了X射线光电子能谱仪的检定方法。本标准适用于使用非单色化Al或Mg X射线或单色化Al X射线,且带有溅射清洁用离子枪的X射线光电子能谱仪的检定。
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本标准以最少量的资料描述了用X射线光电子能谱测量绝缘样品内能级结合能,及将在报告其分析结果时所采用的荷电控制和荷电校正方法,也给出了在结合能测量过程中对于荷电控制和荷电校正有用的方法资料。
本标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法,即X射线光电子能谱法(XPS)。本标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量;通常,本标准适用的氧化硅层厚度不大于6 nm。
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本文件规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱的峰强度测量的分析结果报告中所要求的必要信息,也提供了峰强度测量方法和导出的峰面积不确定度的信息。
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