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本文件规定了基于模型数据库(MBL)方法通过测长扫描电子显微镜(CD-SEM)成像来测定晶圆和光掩膜的关键尺寸(CD)值所需的结构模型、相关参数、文件格式和拟合程序。 本文件适用于试样的线宽测定,如晶圆上的栅极、光掩膜、单个孤立或密集排列的线特征图案,最小达10 nm。
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本文件描述了用阿贝折射仪和全自动折光率仪测定液体化工产品折光率的方法。本文件适用于透明或半透明、温度范围在20 ℃~60 ℃、折光率范围在1.300 0~1.700 0的液体化工产品的测定。
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本标准规定了测定化工产品中砷的通用方法。 本标准中的二乙基二硫代氨基甲酸银光度法适用于砷含量在1 μg~20 μg范围内的溶液测定,原子荧光光度法适用于砷含量在0.005 μg~2.5 μg范围内的溶液测定。
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本标准规定了分子吸收光谱法的术语。 本标准适用于分子吸收光谱法。
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本标准规定了氟化工产品和消费品中全氟辛烷磺酰基化合物(PFOS)的高效液相色谱串联质谱测定方法。 本标准适用于氟化工产品和消费品中全氟辛烷磺酰基化合物(PFOS)的测定。氟化工产品包括含氟水性涂料、泡沫灭火材料、洗涤剂、织物整理剂;消费品特指不粘炊具。 标准的方法检出限以全氟辛烷磺酸计,氟化工产品为质量分数0.000 2%,消费品为0.4 μg/m2。
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本标准规定了通过测量接触角来检测玻璃表面疏水污染物的意义、应用、影响因素、试验装置、试剂和材料、试验步骤、结果解释等。本标准适用于通过测量接触角来检测玻璃表面的疏水污染物。
本标准规定了电子背散射衍射分析方法。 本标准适用于安装了电子背散射衍射附件的扫描电镜和电子探针进行物相识别、晶体取向、显微织构以及晶界特性等方面的分析。
本文件提供了使用适当的单层和多层参考物质优化溅射深度分析参数的指导和要求,以便优化俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质谱中的仪器设置,实现最佳深度分辨。 本文件不涵盖特殊多层膜系(例如δ掺杂层)的使用。
本文件给出了用电子探针显微分析仪或者扫描电镜的波谱仪附件获得试样特定体积内(μm3尺度)的X射线谱进行元素鉴别和确认特定元素存在的方法。
本标准规定了表征以半导体探测器、前置放大器和信号处理系统为基本构成的X射线能谱仪(EDS)特性最重要的性能参数。本标准仅适用于基于固态电离原理的半导体探测器能谱仪。本标准规定了与扫描电镜(SEM)或电子探针(EPMA)联用的EDS性能参数的最低要求以及核查方法。至于实际分析过程,在ISO 22309[2]和 ASTM E1508[3]中已有规范,不在本标准范围之内。
本文件界定了表面化学分析中通用术语和谱学领域中的术语,附录A给出了非表面分析专业的部分常用术语。
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