本文件规定了聚焦离子束法制备透射电镜试样的仪器设备、环境与样品要求、试样制备和试验记录。
本文件适用于金属材料，半导体、矿物等无机非金属材料及高分子材料等固态材料的透射电镜试样制备。
本文件适用于各种类型的聚焦离子束场发射扫描电镜双束系统，单束系统和多束系统参照执行。

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本文件规定了用聚焦离子束扫描电镜对致密岩石微孔隙进行三维成像的方法。
本文件适用于泥岩、页岩、致密碳酸盐岩、致密砂岩和煤岩等岩石50 nm⁓20 μm的微纳米级孔隙分析，其他地质样品参照执行。

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本文件给出了用电子探针显微分析仪或者扫描电镜的波谱仪附件获得试样特定体积内（μm3尺度）的X射线谱进行元素鉴别和确认特定元素存在的方法。

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本文件界定了分析化学中基础化学、抽样与前处理、化学分析、电化学分析、光谱分析、色谱分析、质谱分析、核磁共振波谱分析、热分析、数据处理类的术语和定义。
本文件适用于分析化学标准、技术文件、书刊的编写与应用。

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本文件规定了用于透射电子显微镜观察聚合物复合材料的超薄切片样品制备方法及技术规范。
本文件适用于常温或冷冻条件下能进行超薄切片的聚合物复合材料制样。

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本文件规定了应用电子探针显微分析仪或者安装在扫描电镜（SEM）的波谱仪（WDS），通过电子束与试样相互作用产生的X射线对试样微米尺度体积内的元素进行定量分析的要求。
本文件还包括如下内容：
——定量分析原理；
——本方法涉及的元素、质量分数和标准物质的一般范围；
——仪器的一般要求；
——有关试样制备、实验条件选择、分析测量和报告等基本过程。
本文件适用于电子束垂直入射到表面平滑、均匀的块状试样的定量分析。对仪器和数据处理软件没有特殊的要求。使用者宜从仪器制造厂家获得仪器安装条件、详细的操作程序及仪器规格等信息。

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本文件规定了俄歇电子能谱仪动能能量标不确定度为3 eV时的校准方法，用于识别表面常规元素。另外，本文件还规定了一种用于确定校准周期的方法。本文件适用于直接模式或微分模式的仪器分辨率小于或等于0.5%，微分模式调制幅度的峰值为 2 eV，配有惰性气体离子枪或其他样品清洁方法，具有4 keV或更高束能电子枪的谱仪。

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本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法（气相分解法或直接酸性液滴分解法）和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。

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本标准规定了在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱均匀材料定量分析中相对灵敏度因子的实验测量和使用指南。

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本标准给出了使用电子背散射衍射(EBSD)技术进行晶体取向测量的指南，使测量数据具有较高的可靠性和重复性，本标准确立了试样制备、仪器配置、校正以及数据采集的一般原则。
本标准适用于EBSD对块状晶体样品的晶粒取向分析。

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本标准规定了进行电子探针分析时的入射电子束、波谱仪和试样的实验参数测定的一般原则，并规定了束流、束流密度、死时间、波长分辨率、背底、分析面积、分析深度和分析体积的测定过程。
本标准适用于垂直入射电子束对抛光试样的分析，对于其他实验条件，这些实验参数只能作为参考。
本标准不适用于能谱法。

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本标准规定了分析者使用俄歇电子能谱(AES)分析试样后随即应报告信息的最低要求，包括原始记录和分析记录的信息。

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本标准规定了辉光放电发射光谱法测定材料表层薄膜的厚度、质量（单位面积）和化学成分的方法。本标准仅限于辉光放电发射光谱法深度剖析定量化通用规程的描述，并不能直接应用于具有不同厚度和元素的待测个体材料的定量化。注： 任何一个针对测试材料表面分析的标准均需要明确表层厚度和分析元素，并提供实验室间共同实验结果以确认方法的有效性。

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