This document describes the infrared reflectance method of thickness of silicon carbide epitaxial layers.
This document is applicable to the thickness test of silicon carbide homoepitaxial layers with dopant concentration of less than 1×10 16 cm -3, which grown on the n-type silicon carbide substrate with dopant concentration of more than 1×10 18 cm-3.The test range is 3 μm-200μm.
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本文件规定了测量压制金属粉末层的空气透过性和孔隙率,并得到外比表面积值的方法。在稳态流动条件下,采用层流空气在接近大气压的压力下确定粉末层的透过性。本文件不包括通过恒定体积法测量透过性的方法。本文件未指定特定的商业设备和相应的测试程序。但是,为方便用户起见,本文件列出了资料性附录(见附录A),旨在提供有关三种特定方法的一些实用信息。如果粉末有团聚现象,测量的外比表面积结果将受样品团聚程度的影响。如果相关方许可,可对团聚粉末进行分散处理(见附录B)。本文件适用于所有金属粉末,包括粒径不大于1 000 μm的硬质合金粉末,但通常用于粒径为0.2 μm~75 μm的颗粒。如相关方许可,本方法也可用于轴对称性差(例如薄片状和纤维状)的颗粒。本文件不适用于不同粉末的混合物和含有粘接剂或润滑剂的粉末。
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