本标准规定了采用中心切割氦放电离子化气相色谱法测定一氧化碳中的杂质含量的方法原理、仪器 与设备、试剂与材料、采样、分析步骤及结果。 本标准适用于一氧化碳气体中氢、氧+氩、氮、甲烷、二氧化碳含量的测定。

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本标准规定了用气相色谱法测定电子工业用锗烷气体中杂质含量的方法。 本标准适用于电子工业用锗烷气体中氢、氧（氩）、氮、甲烷、一氧化碳、二氧化碳含量的测定。 各杂质组分的检测限：氢：0.02 μmol/mol、氧（氩）：0.01 μmol/mol、氮：0.01μmol/mol、甲烷：0.005 μmol/mol、一氧化碳：0.02 μmol/mol、二氧化碳：0.005μmol/mol；各杂质组分检测线性范围：氢、氧（氩）、氮≤1000μmol/mol，甲烷、一氧化碳、二氧化碳≤2000μmol/mol。

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本标准规定了用气相色谱法测定溶解乙炔中烃类杂质。 本标准适用于溶解乙炔中q 及q 以下烃类组分的测定。

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本标准规定了测定硅材料中杂质元素含量的辉光放电质谱法（G D M S )所涉及的术语和定义、原理、试剂与材料、仪器设备、样品要求、样品要求、分析步骤、结果计算、允许偏差。 本标准适用于纯度不高于99.99999%的硅材料中的杂质元素L i、Be、B、N a、M g、A 1、P、K、T h、U等元素的测定

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本标准规定了用氦放电离子化气相色谱法测定纯氢、高纯氢、超纯氢中杂质含量的方法。 本标准适用于纯氢、高纯氢、超纯氢等气体中氧（氩）、氮、甲烷、一氧化碳和二氧化碳含量的测定。

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