本文件描述了两种测定天然胶乳和合成胶乳表面张力的方法：
--方法A：铂金环法（Du Noüy环法）；
--方法B：铂金板法（Wilhelmy板法）。
方法A适用于黏度小于200 mPa·s的天然胶乳和合成胶乳。
方法B适用于不含阳离子表面活性剂的天然胶乳和合成胶乳。
方法A和方法B也适用于预硫化胶乳和配合胶乳。

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本文件描述了评估有釉和无釉陶瓷砖表面抗菌剂的抗菌活性试验方法。
本文件未涵盖由于抗菌处理而对瓷砖表面产生的二次影响，例如耐化学腐蚀性、耐污染性或小色差变化。耐化学腐蚀性见ISO 10545-13，耐污染性见ISO 10545-14，小色差见ISO 10545-16。
通过本文件获得的测试结果仅适用于本文件及其规定的试验条件。试验结果表明在特定试验条件下的抗菌活性，不能反映在温度、湿度、不同细菌种类、营养条件等多种因素情况下的活性。

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本文件描述了含有光催化抗菌剂的有釉和无釉陶瓷砖表面抗菌活性的试验方法。
本文件不包括光催化抗菌处理对陶瓷砖表面的副影响，如耐化学腐蚀性、耐污染性和小色差的变化，耐化学腐蚀性见ISO 10545-13 ，耐污染性见ISO 10545-14，小色差见ISO 10545-16。
本文件不包括光催化陶瓷的其他性能，如水污染物分解、自清洁、防雾和空气净化。本文件也不包括评价在一定时间内表面消毒剂或有残留活性的试剂处理过的陶瓷表面。
通过本文件获得的测试结果仅适用于本文件及其规定的试验条件。试验结果表明在特定试验条件下的抗菌活性，不能反映在温度、湿度、不同细菌种类、营养条件等多种因素情况下的活性。

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本文件规定了工业产品表面缺陷自动检测系统的架构与组成、系统功能要求、自动检测核心技术、检测流程以及部署与集成技术要求。
本文件适用于基于深度神经网络技术的工业产品表面缺陷自动检测系统构建与应用。

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本文件描述了镜片的表面耐磨性能试验的仪器设备、样品、试验步骤和试验数据处理。
本文件适用于镜片表面耐磨的试验。

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本文件描述了一种在表面处理前后，通过现场电导率的测定来评定钢材表面多种水溶性盐的总表面浓度的方法。
本文件不适用于测定单独的氯化物、硫酸盐或钠盐等的表面浓度。
本文件仅适用于评定代表大部分与水接触时形成电解质（离子)的杂质。

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本文件描述了对材料薄膜进行协助表面分析的方法，这些薄膜不含有碳化合物作为预期成分，但在全扫描谱中观察到C 1s峰。这些薄膜可通过有氧或电化学氧化在金属和合金上生成，也可沉积在惰性基底上的。所述程序不适用于在基底上颗粒的不连续沉积。除此之外，还提供了一个可从含碳的表面污染物中识别C 1s信号的简单程序。当C 1s峰被确定为来自于外来的覆盖层时，从全谱中得出的成分可针对其影响进行校正。建议的程序以“如果-则”格式的简单规则结构形式所提供，目的是让它们所包含的信息可被数据系统中的自动化程序所利用。所提供的规则仅利用从XPS全扫描（谱）中检索的信息。

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本文件描述了以触针式表面粗糙度测量仪测试平板显示器基板玻璃表面粗糙度和波纹度的方法。
本文件适用于平板显示器用基板玻璃。

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本文件给出了干热、干热沙漠、高原、湿热海洋、湿热、寒冷等特殊环境条件下金属表面防护层的分类、使用环境对防护层的要求、金属表面防护的选择、评价项目的选择、试验方法的选择等内容。
本文件适用于金属表面的有机涂层、金属覆盖层及无机覆盖层。

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本文件规定了打算用在因热效应、材料燃烧或劣化的风险而需要限制灯具外表面温度的场所的灯具要求，但该场所的环境不存在爆炸风险。灯具使用电光源的电源电压不超过1 000 V。
本文件不适用于在爆炸性气体环境下和爆炸性粉尘环境下使用的灯具。

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本文件规定了X射线光电子能谱（XPS）的一般表面分析方法的通用要求。
本文件界定了XPS相关的表面化学分析术语。
本文件适用于X射线光电子能谱仪。

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本文件提供了使用适当的单层和多层参考物质优化溅射深度分析参数的指导和要求，以便优化俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质谱中的仪器设置，实现最佳深度分辨。
本文件不涵盖特殊多层膜系（例如δ掺杂层）的使用。

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本文件提供了在表面化学分析前生物材料样品的处理、安装和表面处理方法的指导。其目的是帮助分析人员了解在进行分析时，使用如下技术对特殊样品处理所需的条件：
——X射线光电子能谱(XPS)或化学分析电子能谱 (ESCA)；
——二次离子质谱 (SIMS)；
——俄歇电子能谱(AES)。
所提出的方法也适用于其他对表面组成分析灵敏的技术，如：
——衰减全反射傅里叶变换红外光谱 (ATR-FTIR)；
——全反射X射线荧光光谱(TXRF)；
——紫外光电子能谱 (UPS)。
本文件阐述了所用真空条件的影响和检测前后及植入前后的污染问题，以及在检测过程中与污染相关的问题。这里的生物材料包括硬质和软质，如金属、陶瓷、支架和聚合物。
本文件不包括诸如细胞、组织和生物体等活体生物材料。本文件中不涵盖的其他相关主题还包括电子显微镜或光学显微镜的样品制备。

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本文件描述了利用辉光放电发射光谱测定金属氧化物膜厚度、单位面积质量和金属氧化物膜化学组成的方法。
本方法适用于测定金属上厚度为5 nm~10 000 nm的氧化物膜，氧化物的金属元素包括铁、铬、镍、铜、钛、硅、钼、锌、镁、锰、锆和铝中的一种或多种。其他可测元素还包括氧、碳、氮、氢、磷和硫。

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本文件描述了一种光催化剂在紫外光（UV）辐照条件下降解水介质中亚甲基蓝（MB）分子的方法，该方法用于测定光催化剂表面的光催化活性，并表征光催化剂表面在紫外光辐照下降解有机分子的能力。
本文件适用于固体光催化剂表面活性的评价。

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