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This document describes the method of testing the gloss of silicon wafers using the light reflection method under three geometric conditions of 20°, 60°, or 85°.
This document is applicable to the testing of the gloss of etched silicon wafers, polished silicon wafers, and epitaxial silicon wafers, but is not applicable to the testing of silicon wafers with patterned surfaces.
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GB/T 20503-2006
铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜镜面反射率和镜面光泽度的测定20°、45°、60°、85°角度方向
现行
发布日期 :
2006-09-26
实施日期 :
2007-02-01
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