【国家标准】硅片表面光泽度的测试方法

本网站发布时间： 2025-04-07

GB/T 42789-2023e
现行
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标准简介

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适用范围：

This document describes the method of testing the gloss of silicon wafers using the light reflection method under three geometric conditions of 20°, 60°, or 85°.
This document is applicable to the testing of the gloss of etched silicon wafers, polished silicon wafers, and epitaxial silicon wafers, but is not applicable to the testing of silicon wafers with patterned surfaces.

基本信息

标准号：
GB/T 42789-2023e
标准名称：
硅片表面光泽度的测试方法
英文名称：
Test method for gloss of silicon wafer
标准状态：
现行
发布日期：
2023-08-06
实施日期：
2024-03-01
出版语种：
英文

标准分类号

标准ICS号：
77.040
中标分类号：
H21

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
16 页
字数：
15 千字
开本：
大16 开

其他信息

起草人：
起草单位：
归口单位：
SAC/TC 203(National Technical Committee for Standardization of Semiconductor Equipment and Materials) and SAC/TC 203/SC 2 (Sub-technical Committee on Materials of the National Technical Committee for Standardization of Semiconductor Equipment and Materials).
提出部门：
SAC/TC 203(National Technical Committee for Standardization of Semiconductor Equipment and Materials) and SAC/TC 203/SC 2 (Sub-technical Committee on Materials of the National Technical Committee for Standardization of Semiconductor Equipment and Materials).
发布部门：
State Administration for Market Regulation and Standardization Administration of the People's Republic of China

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