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【国家标准】 电子工业用气体 四氟化硅

本网站 发布时间: 2015-07-01
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适用范围:

本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式:SiF4。相对分子质量:104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。

基本信息

  • 标准号:

    GB/T 31058-2014

  • 标准名称:

    电子工业用气体 四氟化硅

  • 英文名称:

    Gases for electronic industry—Silicon tetrafluoride
  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2014-12-22
  • 实施日期:

    2015-07-01
  • 出版语种:

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号:

    71.100.20
  • 中标分类号:

    G86

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

出版信息

  • 页数:

    8 页
  • 字数:

    11 千字
  • 开本:

    大16 开

其他信息

  • 起草人:

    邓建平、李于教、傅铸红、汤有伦、崔学文、方华、唐安江、周鹏云
  • 起草单位:

    核工业理化工程研究院华核新技术开发公司、佛山市华特气体有限公司、绿菱电子材料(天津)有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、贵州大学、西南化工研究设计院有限公司
  • 归口单位:

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
  • 提出部门:

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
  • 发布部门:

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会